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1. (WO1997037051) METHOD OF MANUFACTURING SUBSTRATE WITH THIN FILM, AND MANUFACTURING APPARATUS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/1997/037051    International Application No.:    PCT/JP1997/001054
Publication Date: 09.10.1997 International Filing Date: 27.03.1997
IPC:
C23C 14/54 (2006.01), C23C 14/56 (2006.01), G02B 1/11 (2006.01)
Applicants: TORAY INDUSTRIES, INC. [JP/JP]; 2-1, Nihonbashi Muromachi 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 103 (JP) (For All Designated States Except US).
NOMURA, Fumiyasu [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: NOMURA, Fumiyasu; (JP)
Priority Data:
8/78840 01.04.1996 JP
Title (EN) METHOD OF MANUFACTURING SUBSTRATE WITH THIN FILM, AND MANUFACTURING APPARATUS
(FR) PROCEDE DE FABRICATION D'UN SUBSTRAT A COUCHE MINCE ET DISPOSITIF DE FABRICATION
Abstract: front page image
(EN)A method of manufacturing a substrate with thin film, capable of efficiently and continuously manufacturing a large-sized substrate with thin film such as antireflection filters by the use of a relatively small production equipment, and an apparatus for manufacturing the substrate. A method of manufacturing a substrate with thin film, comprising providing a film forming chamber having before and behind a film forming area first and second stockers capable of storing substrates, which are to be subjected to film forming, in multi-stages and a charging chamber and a taking-out chamber having before and behind the film forming chamber stockers capable of storing substrates, which are to be subjected to film forming, in multi-stages, putting the next group of substrates, which are to be subjected to film forming, into the charging chamber to exhaust the charging chamber and taking out those substrates, having been subjected to film forming in the last time, from the taking-out chamber while substrates, which are to be subjected to film forming, are being subjected to film forming in the film forming chamber, the substrates, which are to be subjected to film forming, being subjected to film forming while passing through the film forming area; and an apparatus for carrying out the method of manufacturing a film substrate, the apparatus comprising a film forming chamber having before and behind a film forming area first and second stockers capable of storing substrates, which are to be subjected to film forming, in multi-stages and a charging chamber and a taking-out chamber having before and behind the film forming chamber stockers capable of storing substrates, which are to be subjected to film forming, in multi-stages, the film forming chamber, charging chamber and the taking-out chamber, respectively, having exhaust means capable of independently performing exhaust, the film forming chamber including a film forming grain generating source, means for passing the substrates, which are to be subjected to film forming, through the film forming area, and means for successively taking out the group of substrates, which are to be subjected to film forming, from the first stocker toward the passing means and carrying the same from the passing means into the second stocker. The method of manufacturing a film substrate, according to the invention, is one for efficiently and continuously manufacturing a large-sized substrate with thin film, and is free of waste in the film forming area, has productivity several times as high as the prior method, and is much low in manufacturing cost.
(FR)Procédé de fabrication d'un substrat à couche mince permettant d'obtenir de façon efficace et continue un substrat de grandes dimensions comportant une couche mince, tels que des filtres anti-réfléchissants, au moyen d'un équipement de production relativement limité, ainsi que dispositif servant à fabriquer ce substrat. Le procédé de fabrication consiste à utiliser une chambre de formation d'un feuil possédant, placés devant et derrière une zone de formation de feuil, un premier et un deuxième éléments de stockage capables de stocker des substrats devant être soumis au dépôt d'un feuil en des étapes multiples, une chambre de chargement et une chambre d'enlèvement possédant des éléments de stockage placés devant et derrière la chambre de formation de feuil et capables de stocker des substrats devant être soumis au dépôt d'un feuil en des étapes multiples, à placer le prochain groupe de substrats devant être soumis à la formation d'un feuil, dans la chambre de chargement, afin d'évacuer cette dernière, et à sortir les substrats ayant été soumis à la formation du feuil dans la dernière étape, depuis la chambre d'enlèvement, tandis que les substrats devant être soumis à la formation d'un feuil, sont soumis à la formation du feuil dans la chambre de formation du feuil, les substrats devant être soumis à la formation du feuil étant soumis à cette dernière opération tout en passant à travers la zone de formation de feuil. Dispositif servant à mettre le procédé en application et comprenant une chambre de formation de feuil possédant un premier et un deuxième éléments de stockage, placés devant et derrière une zone de formation de feuil, capables de stocker des substrats devant être soumis à la formation du feuil en des étapes multiples, une chambre de chargement et une chambre d'enlèvement possédant des éléments de stockage placés devant et derrière la chambre de formation de feuil et capables de stocker des substrats devant être soumis à la formation du feuil en des étapes multiples, la chambre de formation de feuil, la chambre de chargement et la chambre d'enlèvement possédant respectivement des moyens d'évacuation capables d'effectuer l'évacuation de façon indépendante, la chambre de formation de feuil comprenant une source de génération de grains constituant le feuil, des moyens servant à faire passer les substrats devant être soumis à la formation du feuil, à travers la zone de formation de feuil, ainsi que des moyens servant à sortir successivement le groupe de substrats devant être soumis à la formation du feuil, depuis le premier élément de stockage vers le moyen de passage et à le porter depuis le moyen de passage vers l'intérieur du deuxième élément de stockage. Ce procédé permet de fabriquer de façon efficace et continue un substrat de grandes dimensions pourvu d'un feuil mince et exempt de déchets dans la zone de formation, selon un rendement beaucoup plus élevé que celui des procédés antérieurs et avec des coûts de fabrication beaucoup plus bas.
Designated States: CN, JP, KR, US.
European Patent Office (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)