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1. (WO1997036020) CERAMIC TARGET FOR THIN FILM DEPOSITION
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/1997/036020    International Application No.:    PCT/IL1997/000108
Publication Date: 02.10.1997 International Filing Date: 26.03.1997
Chapter 2 Demand Filed:    22.10.1997    
IPC:
C23C 14/34 (2006.01)
Applicants: TECHNION RESEARCH & DEVELOPMENT FOUNDATION LIMITED [IL/IL]; Kiryat Hatechnion, 32000 Haifa (IL) (For All Designated States Except US).
KOREN, Gad [IL/IL]; (IL) (For US Only)
Inventors: KOREN, Gad; (IL)
Agent: LANGER, Edward; P.O. Box 410, 43103 Raanana (IL)
Priority Data:
117657 26.03.1996 IL
Title (EN) CERAMIC TARGET FOR THIN FILM DEPOSITION
(FR) CIBLE EN CERAMIQUE POUR LE DEPOT DE COUCHES
Abstract: front page image
(EN)A tiled sputtering target (10) prepared from ceramic tiles (12), for use in a vapor deposition process, and affording large target areas (10) and small spaces (18) between tiles (12) for the uniform introduction of the sputtering gases. In the preferred embodiment, the tiled sputtering target (10) is comprised of many small ceramic tiles (12), which are attached to the backing plate (14) by a soft solder such as indium. The tiles (12) are arranged close to one another, but spaces (18) are formed therebetween. The backing plate (14) has holes (15) formed therein, and the holes (15) and spaces (18) enable uniform introduction of the sputtering gas into the plasma developed in the vapor deposition process, and enhances control of the plasma uniformity, with resulting films being uniform. Each of the small ceramic tiles (12) can be fabricated very densely and uniform as pressed pellets.
(FR)L'invention concerne une cible de pulvérisation (10) en céramique, constituée de carreaux en céramique (12). Cette cible est utile pour les procédés de formation de dépôt en phase gazeuse, elle présente une surface importante (10) et un faible espacement (18) entre les carreaux (12), pour une introduction uniforme des gaz de pulvérisation. Dans la forme d'exécution préférée, la cible de pulvérisation (10) est constituée de petits carreaux en céramique (12), qui sont fixés à la plaque de support (14) par une brasure tendre, par exemple en indium. Les carreaux (12) sont placés l'un près de l'autre, mais des espacements (18) sont laissés entre eux. La plaque de support (14) a des trous (15). Ces trous (15) et les espacements (18) permettent une introduction uniforme du gaz de pulvérisation dans le plasma produit au cours de la formation du dépôt en phase gazeuse et ils permettent également d'améliorer l'uniformité du plasma et donc l'uniformité des couches minces obtenues. Chacun des petits carreaux (12) en céramique peut être fabriqué par compression, à la manière et d'un comprimé, de façon à être très dense et uniforme.
Designated States: AL, AM, AT, AU, AZ, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CU, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, GB, GE, HU, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, TJ, TM, TR, TT, UA, UG, US, UZ, VN.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, KE, LS, MW, SD, SZ, UG)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)