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1. (WO1997023044) DECONVOLUTION INPUT BUFFER COMPENSATING FOR CAPACITANCE OF A SWITCH MATRIX OF A HIGH DENSITY PROGRAMMABLE LOGIC DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/1997/023044    International Application No.:    PCT/US1996/012252
Publication Date: 26.06.1997 International Filing Date: 24.07.1996
IPC:
H03K 19/00 (2006.01), H03K 19/003 (2006.01)
Applicants: ADVANCED MICRO DEVICES, INC. [US/US]; One AMD Place, Mail Stop 68, Sunnyvale, CA 94088-3453 (US)
Inventors: SHRAPE-GEISLER, Bradley, A.; (US)
Agent: FRITZ, Raymond, E., Jr.; Advanced Micro Devices, Inc., One AMD Place, Mail Stop 68, Sunnyvale, CA 94088-3453 (US)
Priority Data:
08/574,776 19.12.1995 US
Title (EN) DECONVOLUTION INPUT BUFFER COMPENSATING FOR CAPACITANCE OF A SWITCH MATRIX OF A HIGH DENSITY PROGRAMMABLE LOGIC DEVICE
(FR) TAMPON D'ENTREE DE DECONVOLUTION EQUILIBRANT LA CAPACITANCE D'UNE MATRICE DE COMMUTATEURS D'UN DISPOSITIF LOGIQUE PROGRAMMABLE HAUTE DENSITE
Abstract: front page image
(EN)A buffer which provides compensation for the RC time delay introduced by a switch matrix of a high density programmable logic device (PLD). The buffer includes circuitry to provide an input threshold which varies to compensate for the RC delay of the switch matrix on a high to low input signal transition. The buffer further includes a negative hysteresis circuit to prevent oscillations on slow rate low to high input signal transitions.
(FR)Cette invention se rapporte à un tampon qui compense le retard RC introduit par une matrice de commutateurs d'un dispositif logique programmable (PLD) haute densité. Ce tampon comprend un circuit destiné à fournir un seuil d'entrée qui varie afin de compenser le retard RC de la matrice de commutateurs lors d'une transition de signal d'entrée de niveau élevé à niveau faible. Ce tampon comprend en outre un circuit d'hystérésis négative destiné à empêcher les oscillations lors de transitions lentes du signal d'entrée d'un niveau faible à un niveau élevé.
Designated States: JP, KR.
European Patent Office (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)