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1. (WO1997021330) PROCESS DEPENDING ON PLASMA DISCHARGES SUSTAINED BY INDUCTIVE COUPLING
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/1997/021330    International Application No.:    PCT/US1996/019259
Publication Date: 12.06.1997 International Filing Date: 03.12.1996
Chapter 2 Demand Filed:    05.06.1997    
IPC:
H01J 37/32 (2006.01), H05H 1/46 (2006.01)
Applicants: FLAMM, Daniel, L. [US/US]; (US)
Inventors: FLAMM, Daniel, L.; (US)
Agent: OGAWA, Richard, T.; Townsend and Townsend and Crew L.L.P., 8th floor, Two Embarcadero Center, San Francisco, CA 94111-3834 (US)
Priority Data:
08/567,224 04.12.1995 US
  18.11.1996 US
Title (EN) PROCESS DEPENDING ON PLASMA DISCHARGES SUSTAINED BY INDUCTIVE COUPLING
(FR) PROCEDE DEPENDANT DE DECHARGES DE PLASMA SOUTENUES PAR COUPLAGE INDUCTIF
Abstract: front page image
(EN)A process for fabricating a product. The process comprises the steps of subjecting a substrate (28) to a composition of entities, at least one of the entities emanating from a species generated by a gaseous discharge excited by a high frequency field in which the vector sum of currents to phase (23) and inverse-phase (27) capacitive coupled voltages from the inductive coupling structure (20) can be selectively maintained.
(FR)Procédé servant à fabriquer un produit. Ce procédé consiste à soumettre un substrat (28) à une composition d'entités, dont au moins une émane d'une espèce générée par une décharge gazeuse excitée par un champ haute fréquence dans lequel la somme vectorielle de courants par rapport à des tensions à couplage capacitif de phase et de phase (23) inversée (27) provenant de la structure (20) de couplage inductif peut être maintenue de façon sélective.
Designated States: JP, KR.
European Patent Office (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)