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1. (WO1997021244) A SYSTEM FOR MONITORING AND ANALYZING MANUFACTURING PROCESSES USING STATISTICAL SIMULATION WITH SINGLE STEP FEEDBACK
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/1997/021244    International Application No.:    PCT/US1996/015511
Publication Date: 12.06.1997 International Filing Date: 27.09.1996
Chapter 2 Demand Filed:    25.06.1997    
IPC:
H01L 21/66 (2006.01)
Applicants: ADVANCED MICRO DEVICES, INC. [US/US]; One AMD Place, Mail Stop 68, Sunnyvale, CA 94088-3453 (US)
Inventors: CHEN, Ming, Chun; (US)
Agent: RODDY, Richard, J.; Advanced Micro Devices, Inc., One AMD Place, Mail Stop 68, Sunnyvale, CA 94088-3453 (US).
BROOKES & MARTIN; High Holborn House, 52/54 High Holborn, London WC1V 6SE (GB)
Priority Data:
08/566,529 04.12.1995 US
Title (EN) A SYSTEM FOR MONITORING AND ANALYZING MANUFACTURING PROCESSES USING STATISTICAL SIMULATION WITH SINGLE STEP FEEDBACK
(FR) SYSTEME DE SURVEILLANCE ET D'ANALYSE DE PROCESSUS DE FABRICATION UTILISANT LA SIMULATION STATISTIQUE AVEC REACTION PAR PAS SIMPLES
Abstract: front page image
(EN)A statistical simulation of a semiconductor fabrication process is performed in parallel with the actual process. Input parameters derived from a probability density function are applied to the simulator which, in turn, simulates an actual fabrication process which is modeled as a probability density function. Each simulation step is repeated with a random seed value using a Monte Carlo technique, a trial-and-error method using repeated calculations to determine a best solution to a problem. The simulator generates an output in the form of a probability distribution. The statistical simulation uses single-step feedback in which a simulation run uses input parameters that are supplied or derived from actual in-line measured data. Output data generated by the simulator, both intermediate output structure data and WET data, are matched to actual in-line measured data in circumstances for which measured data is available. The probability density structure of the simulator is adjusted after each simulation step so that simulated data more closely matches in-line measured data.
(FR)Une simulation statistique d'un processus de fabrication d'un semiconducteur est exécutée parallèlement au processus réel. On applique des paramètres d'entrée obtenus à partir d'une fonction de densité de probabilité au simulateur qui, à son tour, simule un processus de fabrication réel que l'on modélise en tant que fonction de densité de probabilité. Chaque pas de simulation est répété avec une valeur de départ aléatoire au moyen d'une méthode de Monte-Carlo, une méthode par approximations successives qui recourt à des calculs répétés pour déterminer une solution qui est la meilleure pour un problème. Le simulateur fournit une répartition de probabilités. La simulation statistique emploie une réaction simple dans laquelle l'exécution d'une simulation se fait avec des paramètres d'entrée qui sont fournis ou obtenus à partir de données mesurées réelles en ligne. Les données de sortie produites par le simulateur, aussi bien les données structurelles de sortie intermédiaires que les données sur l'essai électrique des tranches, sont comparées aux données mesurées en ligne réelles dans des circonstances où des données mesurées sont disponibles. La structure de densité de probabilités du simulateur est réglée après chaque pas de simulation afin que les données simulées correspondent davantage aux données mesurées en ligne.
Designated States: JP, KR.
European Patent Office (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)