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1. (WO1997020965) METHOD AND APPARATUS FOR CONSTANT COMPOSITION DELIVERY OF HYDRIDE GASES FOR SEMICONDUCTOR PROCESSING
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/1997/020965    International Application No.:    PCT/US1996/018836
Publication Date: 12.06.1997 International Filing Date: 06.12.1996
Chapter 2 Demand Filed:    26.06.1997    
IPC:
C25B 1/00 (2006.01)
Applicants: ELECTRON TRANSFER TECHNOLOGIES, INC. [US/US]; P.O. Box 5812, Edison, NJ 08818 (US) (For All Designated States Except US).
AYERS, William, M. [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: AYERS, William, M.; (US)
Agent: GANDY, Kenneth, A.; Woodard, Emhardt, Naughton, Moriarty & McNett, Bank One Center/Tower, Suite 3700, 111 Monument Circle, Indianapolis, IN 46204 (US)
Priority Data:
60/008,245 06.12.1995 US
Title (EN) METHOD AND APPARATUS FOR CONSTANT COMPOSITION DELIVERY OF HYDRIDE GASES FOR SEMICONDUCTOR PROCESSING
(FR) PROCEDE ET DISPOSITIF POUR LA FOURNITURE A COMPOSITION CONSTANTE DE GAZ D'HYDRURE DANS LE TRAITEMENT DES SEMI-CONDUCTEURS
Abstract: front page image
(EN)The present invention provides an electrochemical system and process for the production of very high purity hydride gases and the feed product streams including these hydride gases at constant composition over extended periods of time. The processes and apparatuses of the invention can employ a lined pressure vessel (1) within which resides an electrochemical cell including cathode (2) and anode (3) material. The hydride gas produced within the vessel exits through port (4) to a manifold which contains automatic valve (8) to allow exit of the hydride gas. The hydride gas passes through one or more filters (7). The gas finally exits the manifold through a pressure regulator (6) to the point where it is utilized in semiconductor fabrication. A source of gas (11) for mixing with the hydride gas is also included.
(FR)L'invention concerne un système électrochimique et le procédé corerspondant pour la production de gaz d'hydrure à très grande pureté et de flux de charge d'alimentation contenant ces gaz d'hydrure à composition constante et sur de longues périodes. En combinaison avec les procédés et les dispositifs décrits dans l'invention, on peut utiliser une enceinte à pression (1) à revêtement interne qui renferme une cellule électrochimique comprenant un élément de cathode (2) et un élément d'anode (3). Le gaz d'hydrure produit dans l'enceinte est évacué par une sortie (4) vers un collecteur qui contient une valve automatique (8) d'extraction des gaz d'hydrure. Les gaz passent par un ou plusieurs filtres (7) et sortent enfin du collecteur par un régulateur de pression (6) en vue de leur utilisation dans la fabrication des semi-conducteurs. Une source de gaz (11) à mélanger avec le gaz d'hydrure est également prévue.
Designated States: CN, JP, US.
European Patent Office (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)