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1. (WO1997018608) RF-EXCITED GAS LASER SYSTEM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau

Pub. No.: WO/1997/018608 International Application No.: PCT/US1996/018120
Publication Date: 22.05.1997 International Filing Date: 12.11.1996
Chapter 2 Demand Filed: 12.06.1997
IPC:
H01S 3/0975 (2006.01)
H ELECTRICITY
01
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
S
DEVICES USING STIMULATED EMISSION
3
Lasers, i.e. devices for generation, amplification, modulation, demodulation, or frequency-changing, using stimulated emission, of infra-red, visible, or ultra-violet waves
09
Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
097
by gas discharge of a gas laser
0975
using inductive or capacitive excitation
Applicants:
SYNRAD, INC. [US/US]; 6500 Harbour Heights Parkway Mukilteo, WA 98275, US
Inventors:
LAAKMANN, Peter; US
Agent:
IANNUCCI, Robert ; Seed and Berry L.L.P. 6300 Columbia Center 701 5th Avenue Seattle, WA 98104-7092, US
AUFENANGER, M. ; Maximilianstrasse 58 D-80538 Münich, DE
Priority Data:
08/557,83914.11.1995US
Title (EN) RF-EXCITED GAS LASER SYSTEM
(FR) SYSTEME LASER A GAZ EXCITE PAR HAUTE FREQUENCE
Abstract:
(EN) A compact drive system (14) drives an RF-excited gas laser (12) to produce laser energy. The drive system (14) is implemented on a ceramic circuit board (44) having a high dielectric constant. The drive system (14) includes an RF energy source that produces RF energy that is transmitted by a quarter-wave transmission line to the plasma tube (12) of the laser. The transmission line is a microstrip transmission line (24) having a conductive strip (42) and a conductive ground plane (46) bonded to opposite sides of the ceramic circuit board (44). Such a microstrip transmission line (24) enables the entire drive system (14) to be implemented on the ceramic circuit board (44). The drive system (14) includes a feedback path (34) to the input of the RF energy source transistor (26), which enables the drive system (14) to be self-oscillating in that the frequency of the RF energy produced is maintained equal to the resonant frequency of the laser (12).
(FR) Un système d'attaque compact (14) commande un laser (12) à gaz excité par haute fréquence afin de produire de l'énergie laser. Ce système d'attaque (14) est mis en application sur une plaquette de circuit en céramique (44) possédant une constante diélectrique élevée. Ce système d'attaque (14) comprend une source d'énergie haute fréquence produisant de l'énergie haute fréquence transmise par une ligne de transmission à un quart de longueur d'onde au tube de plasma (12) du laser. Cette ligne de transmission est une ligne de transmission (24) du type microbande, dont une bande conductrice (42) et un plan de masse conducteur (46) sont soudés aux côtés opposés de la plaquette de circuit en céramique (44). Ce type de ligne de transmission (24) à microbande permet la mise en application de la totalité du système d'attaque (14) sur la plaquette de circuit en céramique (44). Ce système d'attaque (14) comporte une boucle de rétroaction (34) vers l'entrée du transistor (26) de la source d'énergie haute fréquence, ce qui permet au système de commande (14) d'être auto-oscillant, étant donné que la fréquence de l'énergie haute fréquence produite conserve son égalité avec la fréquence résonante du laser (12).
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Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)
Also published as:
EP0861512JP2000500922AU1997011188