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1. (WO1997016847) SAMPLE RETAINING METHOD, SAMPLE ROTATING METHOD, SAMPLE SURFACE FLUID TREATMENT METHOD AND APPARATUSES FOR THESE METHODS
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Pub. No.: WO/1997/016847 International Application No.: PCT/JP1996/003178
Publication Date: 09.05.1997 International Filing Date: 30.10.1996
Chapter 2 Demand Filed: 18.12.1996
IPC:
H01L 21/683 (2006.01)
H ELECTRICITY
01
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
L
SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21
Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
67
Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components
683
for supporting or gripping
Applicants:
HITACHI, LTD. [JP/JP]; 6, Kanda Surugadai 4-chome Chiyoda-ku Tokyo 101, JP (AllExceptUS)
OKA, Hitoshi [JP/JP]; JP (UsOnly)
SATOH, Takao [JP/JP]; JP (UsOnly)
TAKAHARA, Yoichi [JP/JP]; JP (UsOnly)
SAEKI, Tomonori [JP/JP]; JP (UsOnly)
SAITO, Akio [JP/JP]; JP (UsOnly)
Inventors:
OKA, Hitoshi; JP
SATOH, Takao; JP
TAKAHARA, Yoichi; JP
SAEKI, Tomonori; JP
SAITO, Akio; JP
Agent:
OGAWA, Katsuo; Hitachi, Ltd. 5-1, Marunouchi 1-chome Chiyoda-ku Tokyo 100, JP
Priority Data:
7/28307131.10.1995JP
Title (EN) SAMPLE RETAINING METHOD, SAMPLE ROTATING METHOD, SAMPLE SURFACE FLUID TREATMENT METHOD AND APPARATUSES FOR THESE METHODS
(FR) PROCEDE DE RETENUE D'ECHANTILLON, PROCEDE DE ROTATION D'ECHANTILLON, PROCEDE DE TRAITEMENT DE FLUIDE DE SURFACE ET APPAREILS UTILISES POUR CES PROCEDES
Abstract:
(EN) In order to attain a fluid treatment apparatus of small dimensions and a high cleaness by retaining a sample stably by simple retainer guides in a Bernoulli's retainer and rotating the sample by a fluid jet, the retainer guides are formed so as to be mechanically separated from a sample retaining surface, and the sample is retained in a contacting state by ejecting a fluid thereto, the sample guides being rotated in a non-contacting state by a jet of the fluid. A plurality of fluid supply sources are connected to the retainer, and not less than one kind of fluid is supplied to the sample. Since the sample guides (8) prevent the tangential displacement of the sample (1), a continuous treatment using various kinds of fluids can be conducted in a non-air-contacting state by one mechanism. Since these sample guides (8) are rotated by a jet of a fluid, a driving motor and certain kinds of parts of the mechanism are not required, and a great reduction of the dimensions of the apparatus can be attained.
(FR) Afin d'obtenir un appareil de traitement de fluide de petites dimensions et de grande propreté en retenant de manière stable un échantillon par des guides d'un dispositif de retenue de Bernoulli et en faisant tourner l'échantillon à l'aide d'un jet de fluide, des guides sont formés de façon à être séparés mécaniquement d'une surface de retenue de l'échantillon. Puis on maintient l'échantillon en contact en projetant un fluide sur celui-ci, les guides de l'échantillon tournant, sans être en contact, sous l'action du jet de fluide. Une pluralité de sources d'alimentation en fluide sont raccordées au dispositif de retenue, et au moins un type de fluide est envoyé sur l'échantillon. Puisque les guides (8) empêchent le déplacement tangentiel de l'échantillon (1), un traitement continu, à l'aide de différents types de fluides qui ne sont pas en contact avec l'air, peut être effectué par un mécanisme unique. Puisque ces guides (8) tournent sous l'action d'un jet de fluide, il n'est pas nécessaire d'avoir recours à un moteur d'entraînement et à certains types de pièces du mécanisme, et on peut ainsi réduire considérablement les dimensions de l'appareil.
Designated States: CN, KR, SG, US
European Patent Office (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)