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1. (WO1997014176) SEMICONDUCTOR NANOPARTICLE COLLOIDS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/1997/014176    International Application No.:    PCT/US1996/015286
Publication Date: 17.04.1997 International Filing Date: 24.09.1996
IPC:
C30B 7/00 (2006.01)
Applicants: MIDWEST RESEARCH INSTITUTE [US/US]; 425 Volker Boulevard, Kansas City, MO 64110 (US)
Inventors: SCHULZ, Douglas, L.; (US).
PEHNT, Martin; (DE).
CURTIS, Calvin, J.; (US).
GINLEY, David, S.; (US)
Agent: RICHARDSON, Ken; National Renewable Energy Laboratory, 1617 Cole Boulevard, Golden, CO 80401 (US)
Priority Data:
08/535,981 29.09.1995 US
Title (EN) SEMICONDUCTOR NANOPARTICLE COLLOIDS
(FR) SUSPENSION COLLOIDALE DE NANOPARTICULES SEMI-CONDUCTRICES
Abstract: front page image
(EN)A substantially stable colloidal suspension comprising a plurality of semiconductor nanoparticles each capped with a volatile capping agent, and the preparation thereof. A colloidal suspension so defined can be employed as a source of substantially carbon-free semiconductor nanoparticles for semiconductor film growth. Preparation of the colloidal suspension comprises providing two salts reactable with each other to produce a semiconductor and reacting these two salts to produce semiconductor nanoparticles. Introduction of the volatile capping agent can occur either during nanoparticle synthesis or after nanoparticle synthesis by appropriate exposure to and treatment of the nanoparticles by the volatile capping agent. The resulting nanoparticle precipitate is mixed with volatile capping agent to produce a mixture which is subjected to sonication and centrifugation for a time sufficient to produce a concentrated colloidal suspension thereafter diluted for subsequent deposition in the formation of a semiconductor film.
(FR)Suspension colloïdale sensiblement stable comprenant une pluralité de nanoparticules semi-conductrices coiffées chacune par un agent de coiffe volatil, ainsi que sa préparation. On peut utiliser cette suspension colloïdale en tant que source de nanoparticules sensiblement exemptes de carbone servant à effectuer la croissance de couches semi-conductrices. La préparation de cette suspension colloïdale consiste à mettre en réaction deux sels afin de produire des nanoparticules semi-conductrices. On peut introduire l'agent de coiffe volatil pendant ou après la synthèse des nanoparticules au moyen de l'exposition appropriée audit agent et du traitement des nanoparticules par ledit agent. On mélange le précipité obtenu de nanoparticules avec l'agent de coiffe volatil, afin d'obtenir un mélange qu'on soumet à un traitement ultrasonique et à une centrifugation pendant une durée suffisante pour obtenir une suspension colloïdale concentrée, qu'on dilue ensuite afin qu'elle se dépose ultérieurement pendant le processus de formation d'une couche semi-conductrice.
Designated States: AL, AM, AT, AU, AZ, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, GB, GE, HU, IL, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, TJ, TM, TR, TT, UA, UG, UZ, VN.
European Patent Office (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)