WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO1997010901) TIPS AND SUBSTRATES FOR SCANNING PROBE MICROSCOPY
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/1997/010901    International Application No.:    PCT/US1996/013837
Publication Date: 27.03.1997 International Filing Date: 28.08.1996
Chapter 2 Demand Filed:    28.01.1997    
IPC:
B05D 1/00 (2006.01), C25F 3/14 (2006.01), G01Q 60/10 (2010.01)
Applicants: MOLECULAR IMAGING CORPORATION [US/US]; Suite #110, 1208 East Broadway, Tempe, AZ 85282 (US)
Inventors: LINDSAY, Stuart, M.; (US).
JING, Tianwei; (US).
LYUBCHENCKO, Yuri, L.; (US)
Agent: D'ALESSANDRO, Kenneth; D'Alessandro & Ritchie, P.O. Box 640640, San Jose, CA 95164-0640 (US)
Priority Data:
08/524,054 06.09.1995 US
Title (EN) TIPS AND SUBSTRATES FOR SCANNING PROBE MICROSCOPY
(FR) POINTES ET SUBSTRATS POUR MICROSCOPIE A BALAYAGE
Abstract: front page image
(EN)A tip and substrate preparation system (10) for use with scanning probe microscopes (SPMs) includes a scanning tunneling microscope (STM) tip maker, STM tip coater (38), a substrate treatment method for producing clean, flat gold substrates for STM use and methods for preparing chemically activated substrates for use with an atomic force microscope (AFM). The tip maker includes a coater and an etcher which are preferably controlled by electronic controllers (14). The etcher provides fully automatic tip etching in a two-stage process in sodium hydroxide (NaOH) solution, permitting platinum alloys to be etched without the use of cyanide-containing chemicals. The coater is used to insulate the tips with soft polymer coatings so as to ensure very low tip leakage current (on the order of about 1 pA typical). The substrate treatment device comprises a quartz plate (122) and a quartz tube (114) for annealing substrates in a hydrogen flame. The chemically activated substrates for atomic force microscopy permit the surface of mica to be modified at will so as to be hydrophobic, hydrophilic, positively or negatively charged.
(FR)Un système (10) de préparation pour pointe et substrat destinés aux microscopes à balayage comprend une machine à fabriquer les pointes de microscopes à effet tunnel et une machine à enduire la pointe (38), et fait appel à un procédé de traitement du substrat pour produire des substrats en or plats et propres destinés à être utilisés en microscopie à balayage, ainsi qu'à des procédés pour préparer des substrats chimiquement activés destinés aux microscopes à forces atomiques. La machine à fabriquer les pointes comprend une machine à enduire et une machine à graver, de préférence commandées par des contrôleurs électroniques (14). La machine à graver permet de graver des alliages de platine d'une manière totalement automatique, en deux étapes, dans une solution d'hydroxyde de sodium (NaOH), ce qui évite l'emploi de produits chimiques contenant du cyanure. La machine à enduire est utilisée pour isoler les pointes grâce à des revêtements de polymère souple de façon à assurer un courant de fuite de pointe très faible (de l'ordre d'environ 1 pA, généralement). Le dispositif de traitement du substrat comprend une plaque de quartz (122) et un chalumeau à quartz (114) pour recuire les substrats dans un flamme d'hydrogène. Les substrats chimiquement activés pour la microscopie à forces atomiques ont une surface de mica qui peut être modifiée à volonté de façon à être hydrophobe, hydrophile, chargée positivement ou négativement.
Designated States: JP, KR.
European Patent Office (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)