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1. (WO1997004478) PLASMA TREATMENT APPARATUS FOR LARGE AREA SUBSTRATES
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/1997/004478    International Application No.:    PCT/US1996/011213
Publication Date: 06.02.1997 International Filing Date: 02.07.1996
Chapter 2 Demand Filed:    28.01.1997    
IPC:
H01J 37/32 (2006.01)
Applicants: CHAN, Chung [US/US]; (US)
Inventors: CHAN, Chung; (US)
Agent: SCHURGIN, Stanley, M.; Weingarten, Schurgin, Gagnebin & Hayes, Ten Post Office Square, Boston, MA 02109 (US)
Priority Data:
08/503,973 19.07.1995 US
Title (EN) PLASMA TREATMENT APPARATUS FOR LARGE AREA SUBSTRATES
(FR) APPAREIL DE TRAITEMENT AU PLASMA DE SUBSTRATS A GRANDE SURFACE
Abstract: front page image
(EN)A plasma system (10) for processing large area substrates. In one embodiment the system includes a plurality of radiofrequency (rf) plasma sources (40) removably attached to the rf transparent windows (26) of a processing chamber (14). The number and distribution of sources is varied to provide the size and uniformity of the plasma field required to treat the substrate. A plurality of plasma probes (74), such as Langmuir probes, Faraday cups and optical sensor are positioned within the chamber and in electrical communication with the plasma sources adjust the rf field produced by the individual sources to maintain the desired degree of field uniformity.
(FR)On décrit un dispositif (10) de traitement au plasma de substrats à grande surface, dont un mode de réalisation comprend une pluralité de sources (40) de plasma à fréquences radioélectriques, lesquelles sont attachées de manière amovible à des fenêtres (26) d'une chambre de traitement (14), transparentes à ces fréquences. Le nombre et la répartition des sources varie afin de procurer la dimension et l'uniformité de champ de plasma nécessaire au traitement du substrat. On a placé dans la chambre une pluralité de sondes (74) à plasma, telles que des sondes de Langmuir, des collecteurs de Faraday et un capteur optique, lesquels sont en communication électrique avec les sources de plasma, afin de régler le champ de fréquences radioélectriques produit par les sources individuelles, et de maintenir le degré voulu d'uniformité du champ.
Designated States: AU, CA, CN, JP, KR, SG.
European Patent Office (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)