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1. (WO1996006706) TREATMENT OF PARTICULATE MATTER BY ELECTRICAL DISCHARGE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/1996/006706    International Application No.:    PCT/US1994/009901
Publication Date: 07.03.1996 International Filing Date: 01.09.1994
IPC:
H05H 1/44 (2006.01)
Applicants: REFRANCO CORP. [US/US]; 3243 Snelling Avenue South, Minneapolis, MN 55406 (US)
Inventors: TYLKO, Jozef, K.; (US)
Agent: SIVERTSON, Wayne, A.; Nawrocki, Rooney & Sivertson, Suite 401, Broadway Place East, 3433 Broadway Street Northeast, Minneapolis, MN 55413-3009 (US)
Priority Data:
Title (EN) TREATMENT OF PARTICULATE MATTER BY ELECTRICAL DISCHARGE
(FR) TRAITEMENT DE MATIERES PARTICULAIRES PAR DECHARGE ELECTRIQUE
Abstract: front page image
(EN)A reactor and method for the treatment of matter by plasma action. A plurality of electrode structures (21-26) are positioned to define a reaction zone associated with the inter-electrode space. The inter-electrode space is conditioned (as by preionizing) and a series of discrete electrical discharges are produced throughout the reaction zone. In a preferred embodiment, the reaction zone is subjected to a sequence of discrete electrical discharges in a time interval less than the residence time of material to be treated within the reaction zone.
(FR)L'invention se rapporte à un réacteur et à un procédé de traitement de matières par action du plasma. Une pluralité de structures d'électrodes (21-26) sont positionnées de façon à former une zone de réaction associée à l'espace se trouvant entre les électrodes. Cet espace est préparé (p. ex. par préionisation) et une série de décharges électriques distinctes sont générées dans la zone de réaction. Selon un mode préféré de réalisation, la zone de réaction est soumise à une séquence de décharges électriques distinctes dans un intervalle de temps inférieur au temps de séjour des matières à traiter se trouvant dans la zone de réaction.
Designated States: AM, GE, KG, LT, LV, MD, TJ, UZ.
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)