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1. (WO1996005333) JET PLASMA DEPOSITION PROCESS AND APPARATUS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/1996/005333    International Application No.:    PCT/US1995/007939
Publication Date: 22.02.1996 International Filing Date: 23.06.1995
Chapter 2 Demand Filed:    17.11.1995    
IPC:
C23C 4/04 (2006.01), C23C 4/12 (2006.01), C23C 16/26 (2006.01), C23C 16/50 (2006.01), C23C 16/513 (2006.01), H01J 37/32 (2006.01)
Applicants: MINNESOTA MINING AND MANUFACTURING COMPANY [US/US]; 3M Center, P.O. Box 33427, Saint Paul, MN 55133-3427 (US)
Inventors: KOHLER, Gunter, A.; (US).
KIRK, Steh, M.; (US).
FOLLETT, Gary, J.; (US)
Agent: TRUESDALE, Carole; Office of Intellectual Property Counsel, Minnesota Mining and Manufacturing Company, P.O. Box 33427, Saint Paul, MN 55133-3427 (US).
VOSSIUS & PARTNER; P.O. Box 86 07 67, D-81634 München (DE)
Priority Data:
08/291,111 16.08.1994 US
Title (EN) JET PLASMA DEPOSITION PROCESS AND APPARATUS
(FR) PROCEDE ET APPAREIL DE DEPOT PAR JET DE PLASMA
Abstract: front page image
(EN)A process and apparatus (10) for the plasma deposition of a carbon-rich coating onto a substrate (75) is provided. This method includes the steps of providing a substrate (75) in a vacuum chamber, and generating a carbon-rich plasma (160) in the vacuum chamber by injecting a plasma gas into a hollow cathode slot system (40) containing a cathode made of two electrode plates arranged parallel to each other, providing a sufficient voltage to create and maintain a carbon-rich plasma (160) in the hollow cathode slot system (40), and maintaining a vacuum in the vacuum chamber sufficient for maintaining the plasma (160). The plasma is deposited on the substrate to form a carbon-rich coating.
(FR)L'invention se rapporte à un procédé et à un appareil (10) de dépôt au plasma d'un revêtement riche en carbone sur un substrat (75). Ce procédé consiste à prévoir un substrat dans une chambre à vide, et à générer un plasma riche en carbone (160) dans la chambre à vide par injection d'un gaz de plasma dans un système de fente à cathode creuse (40) renfermant une cathode constituée de deux plaques électrolytiques parallèles, à produire une tension suffisante pour créer et maintenir un plasma riche en carbone (160) dans le système de fente à cathode creuse (40), et à conserver un vide dans la chambre à vide suffisant pour maintenir le plasma (160). Le plasma est déposé sur le substrat pour former un revêtement riche en carbone.
Designated States: CA, JP, KR, MX.
European Patent Office (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)