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1. (WO1996004665) OPTICAL ELEMENT OF MULTILAYERED THIN FILM FOR X-RAYS AND NEUTRONS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/1996/004665    International Application No.:    PCT/US1995/009769
Publication Date: 15.02.1996 International Filing Date: 01.08.1995
Chapter 2 Demand Filed:    28.02.1996    
IPC:
G21K 1/06 (2006.01)
Applicants: OSMIC, INC. [US/US]; 1788 Northwood Drive, Troy, MI 48084 (US)
Inventors: GUTMAN, George; (US)
Agent: OBERHOLTZER, Steven, L.; Harness, Dickey & Pierce, P.L.C., P.O. Box 828, Bloomfield Hills, MI 48303 (US)
Priority Data:
08/283,610 01.08.1994 US
08/487,936 07.06.1995 US
Title (EN) OPTICAL ELEMENT OF MULTILAYERED THIN FILM FOR X-RAYS AND NEUTRONS
(FR) ELEMENT OPTIQUE A MINCE FILM MULTICOUCHE POUR RAYONS X ET NEUTRONS
Abstract: front page image
(EN)This invention relates to novel methods of producing flat and curved optical elements with laterally and depth graded multilayer thin films, in particular multilayers of extremely high precision, for use with soft and hard x-rays and neutrons and the optical elements achieved by these methods. In order to improve the performance of an optical element, errors in $i(d) spacing and curvature are isolated and subsequently compensated.
(FR)Cette invention se rapporte à des nouveaux procédés pour produire des éléments optiques plats et incurvés avec de minces films multicouches profilés latéralement et en profondeur, en particulier des films multicouches d'une précision extrêmement élevée, conçus pour être utilisés avec des rayons X mous et durs et avec des neutrons, ainsi qu'aux éléments optiques obtenus par ces procédés. Afin d'améliorer les performances d'un tel élément optique, les erreurs d'espacement et de courbure de la valeur $i(d) sont isolées, pour être ensuite corrigées.
Designated States: JP.
European Patent Office (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)