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1. (WO1996002925) MAGNETIC THIN FILM AND PRODUCTION METHOD THEREFOR
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/1996/002925    International Application No.:    PCT/JP1994/001173
Publication Date: 01.02.1996 International Filing Date: 18.07.1994
Chapter 2 Demand Filed:    03.03.1995    
IPC:
H01F 10/14 (2006.01), H01F 41/18 (2006.01)
Applicants: TAKAHASHI, Migaku [JP/JP]; (JP)
Inventors: TAKAHASHI, Migaku; (JP)
Agent: FUKUMORI, Hisao; 12, Honshio-cho, Shinjuku-ku, Tokyo 160 (JP)
Priority Data:
Title (EN) MAGNETIC THIN FILM AND PRODUCTION METHOD THEREFOR
(FR) COUCHE MINCE MAGNETIQUE ET PROCEDE DE FABRICATION
Abstract: front page image
(EN)This invention is directed to provide a thin film of iron nitride of high saturation and low coercive force and a method of forming stably at a high speed a thin film of iron nitride without requiring any specific substrate. The method of the present invention uses an opposed-target DC sputtering method, in which Ar and N¿2? gases are introduced into a film formation chamber, DC power is applied to iron targets in the Ar and N¿2? gases and a thin film of iron nitride is formed on a substrate. A heat treatment is carried out in vacuum after the formation of the thin film.
(FR)L'invention concerne une couche mince en nitrure de fer présentant une saturation élevée et un champ coercitif bas, ainsi qu'un procédé de fabrication stable et à vitesse élevée d'une couche mince en nitrure de fer sans utiliser de substrat spécifique. Ce procédé consiste à effectuer une pulvérisation cathodique à courant continu de cibles opposées, de ce fait, on introduit Ar et N¿2? gazeux dans une chambre de formation de couches, on applique une puissance à courant continu à des cibles en fer dans Ar et N¿2? gazeux et on obtient une couche mince de nitrure de fer sur un substrat. On effectue un traitement thermique sous vide après la formation de la couche mince.
Designated States: CN, JP, KR, US.
European Patent Office (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)