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1. (WO1994014863) METAL ION REDUCTION IN THE RAW MATERIALS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/1994/014863    International Application No.:    PCT/US1993/012406
Publication Date: 07.07.1994 International Filing Date: 20.12.1993
Chapter 2 Demand Filed:    27.07.1994    
IPC:
C08G 8/08 (2006.01), G03F 7/023 (2006.01)
Applicants: HOECHST CELANESE CORPORATION [US/US]; Route 202-206 North, Somerville, NJ 08876 (US)
Inventors: RAHMAN, M., Dalil; (US).
LU, Ping-Hung; (US).
AUBIN, Daniel, P.; (US).
DAMMEL, Ralph, R.; (US)
Agent: SAYKO, Andrew, F., Jr.; Hoechst Celanese Corporation, 86 Morris Avenue, Summit, NJ 07901 (US)
Priority Data:
07/999,500 29.12.1992 US
Title (EN) METAL ION REDUCTION IN THE RAW MATERIALS
(FR) REDUCTION DU NIVEAU D'IONS METALLIQUES DANS DES MATIERES PREMIERES
Abstract: front page image
(EN)The present invention provides methods for producing water insoluble, aqueous alkali soluble novolak resins having a very low level of metal ions and a substantially consistent molecular weight. A method is also provided for producing photoresist composition from such novolak resins and for producing semiconductor devices using such photoresist compositions.
(FR)L'invention concerne des procédés de production de novolaques aqueuses solubles dans l'alcali et insolubles dans l'eau présentant un très faible niveau d'ions métalliques et une masse molaire conséquente. L'invention porte également sur un procédé de production de compositions à photorésist à partir de ces novolaques et de production de dispositifs à semiconducteurs à l'aide de ces compositions à photorésist.
Designated States: JP, KR.
European Patent Office (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)