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1. (WO1993021653) RADIO-FREQUENCY POWERED GLOW DISCHARGE DEVICE AND METHOD WITH HIGH VOLTAGE INTERFACE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/1993/021653    International Application No.:    PCT/US1993/003004
Publication Date: 28.10.1993 International Filing Date: 30.03.1993
Chapter 2 Demand Filed:    04.11.1993    
IPC:
H01J 49/10 (2006.01)
Applicants: CLEMSON UNIVERSITY [US/US]; Clemson, SC 29634 (US)
Inventors: DUCKWORTH, Douglas, C.; (US).
MARCUS, R., Kenneth; (US).
DONOHUE, David, L.; (AT).
LEWIS, Trousdale, A.; (US)
Agent: BAGARAZZI, James, M.; Dority & Manning, Suite 15, 700 East North Street, Greenville, SC 29601 (US)
Priority Data:
866,030 09.04.1992 US
944,216 11.09.1992 US
Title (EN) RADIO-FREQUENCY POWERED GLOW DISCHARGE DEVICE AND METHOD WITH HIGH VOLTAGE INTERFACE
(FR) DISPOSITIF A DECHARGE LUMINESCENTE HAUTE FREQUENCE ET PROCEDE DE FABRICATION AU MOYEN D'UNE INTERFACE A HAUTE TENSION
Abstract: front page image
(EN)A high voltage accelerating potential (102) is applied to the electrically conducting interior wall of an RF powered glow discharge cell (68) in order to be able to repel the positive ions formed in the discharge. The RF power supply (99) desirably is electrically grounded (120) and the conductor (92) carrying the RF power to the sample (62) held by the probe is desirably shielded completely excepting only the conductor's terminal point of contact with the sample. An impedance matching network (100) is used to match the impedance of the plasma inside the discharge cell to the impedance of the RF power supply circuit. The high voltage DC accelerating potential is not supplied to the sample. A high voltage capacitance (200) is electrically connected in series between the sample and the RF power supply and impedance matching network. The high voltage capacitance isolates the high DC voltage from the RF electronics, while the RF potential is passed across the high voltage capacitance to the plasma. In addition, an inductor (112) is added in the circuit in a manner that protects at least the RF power supply, and desirably the impedance matching network as well, from a short that might occur across the high voltage capacitance. The discharge cell and the probe are configured and disposed to prevent the probe's components from bridging within the cell between the relatively low vacuum region and, the relatively high vacuum region (403) surrounding the probe and cell. The probe and cell also are configured and disposed to prevent the probe's components from electrically shorting the cell's components.
(FR)Un potentiel accélérateur haute tension (102) est appliquée sur la paroi intérieure conductrice électriquement d'une cellule à décharge luminescente HF (68) de façon à permettre la réflexion des ions formés dans la décharge. L'alimentation HF (99) est de préférence reliée à la terre (120), et le conducteur (92) transportant l'énergie HF dans l'échantillon (62) porté par la sonde est de préférence entièrement blindé, excepté le point de contact terminal du conducteur avec l'échantillon. Un réseau d'adaptation d'impédance (100) est utilisé pour adapter l'impédance du plasma à l'intérieur de la cellule de décharge à l'impédance du circuit d'alimentation HF. Le potentiel accélérateur continu haute tension n'est pas envoyé dans l'échantillon. Une capacité à haute tension (200) est raccordée électriquement en série entre l'échantillon et l'alimentation HF et le réseau d'adaptation d'impédance. La capacité à haute tension isole la haute tension continue de l'électronique HF, alors que le potentiel HF est envoyé au plasma par l'intermédiaire de la capacité à haute tension. De plus, une bobine d'inductance (112) est rajoutée dans le circuit de façon qu'au moins l'alimentation HF et de préférence le réseau d'adaptation d'impédance soient protégés d'un court-circuit susceptible de se produire dans la capacité à haute tension. La cellule de décharge et la sonde sont configurées et disposées de manière à empêcher les composants de la sonde de former un pont dans ladite cellule, entre la région à vide bas et la région à vide très poussé (403) autour de ladite sonde et ladite cellule. Par ailleurs, la sonde et la cellule sont disposées et configurées de façon à empêcher les composants de la sonde de court-circuiter les composants de la cellule.
Designated States: CA, JP.
European Patent Office (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)