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1. (WO1992012469) METHOD OF FORMING NC DATA
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/1992/012469    International Application No.:    PCT/JP1991/001622
Publication Date: 23.07.1992 International Filing Date: 26.11.1991
IPC:
G05B 19/4093 (2006.01)
Applicants: FANUC LTD [JP/JP]; 3580, Shibokusa, Aza-Komanba, Oshinomura, Minamitsuru-gun, Yamanashi 401-05 (JP) (For All Designated States Except US).
MATSUMURA, Teruyuki [JP/JP]; (JP) (For US Only).
NAGASHIMA, Noritake [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: MATSUMURA, Teruyuki; (JP).
NAGASHIMA, Noritake; (JP)
Agent: HATTORI, Kiyoshi; Hattori Patent Office, Horiei Center Building, 3-9, Motoyokoyamacho 2-chome, Hachioji-shi, Tokyo 192 (JP)
Priority Data:
2/414575 27.12.1990 JP
Title (EN) METHOD OF FORMING NC DATA
(FR) PROCEDE DE FORMATION DE DONNEES DE COMMANDE NUMERIQUE
Abstract: front page image
(EN)A method of interactive preparation of NC data for specifying the depth of cut and a total amount of removal, in which an appropriate depth of finish cut can be set. A lower limit (s) is set (S2) for the depth of cut (a), and a required number of times (n+1) of cutting and a final cutting amount (d) are calculated (S3, S4) based on the depth of cut (a) and the total amount of removal (b). The NC data are modified (S5 to S12) for the depths of cut (a) and (d) to remain above the lower limit value (s).
(FR)L'invention se rapporte à un procédé de préparation interactive de données de commande numérique, qui sert à spécifier la profondeur d'une coupe et la quantité totale de matière à enlever, et dans lequel une profondeur appropriée de coupe finale peut être sélectionnée. Une limite inférieure (s) est sélectionnée (S2) pour la profondeur de coupe (a), et un nombre requis de courses (n+1) de coupes et la quantité de coupe finale (d) sont calculés (S3, S4) sur la base de la profondeur de coupe (a) et de la quantité totale de matière à enlever (b). On modifie (S5 à S12) les données de commande numérique en fonction des profondeurs de coupe (a) et (d) pour rester au-dessus de la valeur limite inférieure (s).
Designated States: US.
European Patent Office (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FR, GB, GR, IT, LU, NL, SE).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)