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1. (WO1992012275) DEVICE AND PROCESS FOR THE VAPORISATION OF MATERIAL
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/1992/012275    International Application No.:    PCT/EP1991/002525
Publication Date: 23.07.1992 International Filing Date: 31.12.1991
Chapter 2 Demand Filed:    25.07.1992    
IPC:
C23C 14/24 (2006.01), C23C 14/32 (2006.01), H01J 37/32 (2006.01)
Applicants: PLASCO DR. EHRICH PLASMA-COATING GMBH [DE/DE]; Taunusstraße 24, D-6501 Heidesheim (DE) (For All Designated States Except US).
EHRICH, Horst [DE/DE]; (DE) (For US Only).
HASSE, Brunhilde [DE/DE]; (DE) (For US Only).
HINZ, Hans-Peter [DE/DE]; (DE) (For US Only).
MAUSBACH, Michael [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Inventors: EHRICH, Horst; (DE).
HASSE, Brunhilde; (DE).
HINZ, Hans-Peter; (DE).
MAUSBACH, Michael; (DE)
Agent: WERNER, Hans-Karsten; Deichmannhaus am Hauptbahnhof, D-5000 Köln 1 (DE)
Priority Data:
P 41 00 541.4 10.01.1991 DE
Title (DE) VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR MATERIALVERDAMPFUNG
(EN) DEVICE AND PROCESS FOR THE VAPORISATION OF MATERIAL
(FR) PROCEDE ET DISPOSITIF DE VAPORISATION DE MATIERE
Abstract: front page image
(DE)Gegenstand der Erfindung ist eine Vorrichtung zur Materialverdampfung mittels Vakuumlichtbogenentladung mit kalter Kathode und heißer selbstverzehrender Anode, wobei der Tiegel (7) aus einem elektrisch leitfähigen und wärmeleitfähigen Material besteht, das Verbindungsstück (7a) aufgrund seiner Materialeigenschaften oder seiner geometrischen Eigenschaften eine elektrisch leitende und wärmeisolierende Befestigung des Tiegels (7) an der Anodenbasisplatte (6) ermöglicht und der Tiegel (7) seitlich oberhalb der Arbeitsfläche der Kathode (2a) so nahe an dieser Arbeitsfläche angeordnet ist, daß der Raumwinkel, der von dem vom Anodentiegel (7) abströmenden Metalldampfplasma (9) gebildet wird, gerade nicht durch die Blende (13) so verringert wird, daß eine homogene Bedampfung von Substraten oberhalb des Tiegels (7) nicht mehr möglich ist. Die Kathode (2) und die Anode sind gegenüberliegend angeordnet. Die Erfindung betrifft weiterhin ein Verfahren zur Materialverdampfung, wobei die von den Kathodenflächen ausgehenden Plasmaströme (5a, 5b) auf der Außenwandung des Tiegels (7b) und auf dem Materialdampf oberhalb des Tiegels (9) ungehindert einwirken, so daß ein hoher Verdampfungsgrad erreicht wird und der Tiegel (7) aus einem elektrisch leitfähigen und wärmeleitfähigen Material besteht.
(EN)The object of the invention is a device for the vaporisation of material by means of a vacuum arc discharge with a cold cathode and a hot self-consuming anode, wherein the crucible (7) consists of an electrically and heat conductive material, the connecting member (7a) facilitates the electrically conductive and heat insulating securing of the crucible (7) to the anode base plate owing to its material or geometric properties, and the crucible (7) is arranged laterally above the working surface of the cathode (2a) and so near to it that the solid angle formed by the metal vapour plasma (9) pouring from the anode crucible (7) is not so reduced by the diaphragm (13) that uniform vapour coating of substrates above the crucible (7) is no longer possible. The cathode (2) and the anode are arranged opposite each other. The invention also relates to a process for the vaporisation of material in which the plasma jets (5a, 5b) from the cathode surfaces are unimpeded in their action e outer wall of the crucible (7b) and on the material vapour above the crucible (9), giving a greater degree of vaporisation, and the crucible (7) is made of an electrically and heat conductive material.
(FR)L'invention a pour objet un dispositif de vaporisation de matière par décharge à l'arc électrique sous vide, avec cathode froide et anode chaude auto-consommable, dans lequel le creuset (7) est en un matériau électro- et thermoconducteur, la pièce de jonction (7a) permettant, en raison des propriétés du matériau ou de ses propriétés géométriques, une fixation électro- et thermo-isolante du creuset (7) à la plaque de base anodique (6), le creuset (7) étant monté latéralement, au-dessus de la surface de travail de la cathode (2a) en étant rapproché de cette surface dans une mesure telle que l'angle solide qui est formé par le plasma de vapeur métallique (9) s'écoulant du creuset anodique (7) ne soit pas réduit par le diaphragme (13) pour qu'une métallisation homogène du substrat au-dessus du creuset (7) ne soit plus possible. La cathode (2) et l'anode sont disposées l'une en face de l'autre. L'invention a également pour objet un procédé de vaporisation de matière, dans lequel les courants de plasma (5a, 5b) provenant des surfaces de la cathode agissent sans obstacles sur la paroi extérieure du creuset (7b) et sur la vapeur du matériau au-dessus du creuset (9), ce qui permet d'obtenir un haut degré de vaporisation, ledit creuset (7) étant constitué par un matériau électro- et thermoconducteur.
Designated States: AU, BR, CA, CS, JP, KR, US.
European Patent Office (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FR, GB, GR, IT, LU, MC, NL, SE).
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)