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1. (WO1992011923) DEVICE FOR CLEANSING THE MACHINING FLUID FOR A SPARK-EROSION OR ELECTROCHEMICAL PROCESSING MACHINE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/1992/011923    International Application No.:    PCT/CH1991/000275
Publication Date: 23.07.1992 International Filing Date: 20.12.1991
IPC:
B01D 61/14 (2006.01), B01D 65/02 (2006.01), B23H 1/10 (2006.01), B23H 3/10 (2006.01)
Applicants: EROSONIC AG [CH/CH]; Ebnaterstrasse 84, CH-9630 Wattwil (CH) (For All Designated States Except US).
SIEG, Arno [CH/CH]; (CH) (For US Only)
Inventors: SIEG, Arno; (CH)
Agent: GRIESKAMP, Hannspeter; Im Baumgarten 7, CH-8123 Ebmatingen (CH)
Priority Data:
31/91-3 07.01.1991 CH
Title (DE) VORRICHTUNG ZUM REINIGEN DER BEARBEITUNGSFLÜSSIGKEIT FÜR EINE ELEKTROEROSIVE ODER ELEKTROCHEMISCHE BEARBEITUNGSMASCHINE
(EN) DEVICE FOR CLEANSING THE MACHINING FLUID FOR A SPARK-EROSION OR ELECTROCHEMICAL PROCESSING MACHINE
(FR) DISPOSITIF POUR LE NETTOYAGE DU LIQUIDE D'USINAGE POUR UNE MACHINE D'USINAGE PAR ELECTRO-EROSION OU ELECTROCHIMIQUE
Abstract: front page image
(DE)Die Anlage enthält mindestens einen Membranfilter (32) zum Filtrieren einer Bearbeitungsflüssigkeit, die durch ihre Verwendung bei der elektroerosiven oder elektrochemischen Bearbeitung von Werkstücken verunreinigt wurde. Die Anlage enthält auch eine Vorrichtung zum zyklischen Reinigen des verschmutzten Membranfilters, welche Vorrichtung Ultraschall-Quellen (33) zum Beschallen des Membranfilters (32) und Lockern der Verunreinigungsteilchen in den Filterporen sowie Mittel (20, 23, 24, 25, 35, 36, 41) zum Rückspülen des Membranfilters und zum Entfernen der Verunreinigungsteilchen vorsieht. Die Verunreinigungsteilchen werden mittels Durchspülintervallen aus dem Konzentrat-Raum (30) in das Sedimentiergefäss (12) befördert. Infolge dieser Kombination von Ultraschall und Rückspülen werden extrem kleine Zeiten der Reinigungszyklen und eine gleichmässige Reinigung der gesamten Filterfläche ohne Rücksicht auf die durch die Verunreinigung entstandene ungleichmässige Verschmutzungstopographie der Filterfläche gewährleistet.
(EN)The plant comprises at least one diaphragm filter (32) to filter a machining fluid which has become polluted through its use in the spark-erosion or electrochemical machining of workpieces. The plant also comprises a device for the periodic cleaning of the soiled diaphragm filter, said device having ultrasonic sources (33) for the acoustic irradiation of the diaphragm filter (32) and to loosen the particles of impurities in the filter pores and means (20, 23, 24, 25, 335, 36, 41) for back-flushing the diaphragm filter and removing the impurity particles. Sais particles are conveyed from the concentrate chamber (30) to the sedimentation vessel (12) by periodic back-flushing. This combination of ultrasound and back-flushing results in extremely short cleansing cycle times and the uniform cleansing of the entire filter area regardless of the uneven soiling of the filter surface caused by the impurities.
(FR)L'installation comprend au moins un filtre à membrane (32) pour filtrer un liquide d'usinage qui a été contaminé par son utilisation dans l'usinage par électro-érosion ou l'usinage électrochimique de pièces. L'installation comprend également un dispositif pour le nettoyage périodique du filtre à membrane encrassé, dispositif qui prévoit des sources d'ultrasons (33) pour exposer le filtre à membrane (32) à ces ultrasons et détacher les particules d'impuretés des pores du filtre, ainsi que des dispositifs (20, 23, 24, 25, 35, 36, 41) pour assurer le rétrolavage du filtre à membrane et la suppression des particules d'impuretés. Les particules d'impuretés sont acheminées, par des rétrolavages périodiques, de la zone du concentré (30) au récipient de sédimentation (12). Du fait de cette combinaison de l'application d'ultrasons et du rétrolavage, on est assuré d'avoir des cycles de nettoyage extrêmement courts ainsi qu'un nettoyage uniforme de l'ensemble de la surface du filtre, indépendamment de la répartition irrégulière des zones encrassées sur cette surface du filtre du fait de la contamination.
Designated States: JP, US.
European Patent Office (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FR, GB, GR, IT, LU, MC, NL, SE).
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)