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1. (WO1992004291) METHOD OF ENDPOINT DETECTION AND STRUCTURE THEREFOR
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/1992/004291    International Application No.:    PCT/US1991/006427
Publication Date: 19.03.1992 International Filing Date: 05.09.1991
IPC:
G03F 7/30 (2006.01), H01J 37/32 (2006.01)
Applicants: LUXTRON CORPORATION [US/US]; 2775 Northwestern Parkway, Santa Clara, CA 95051 (US)
Inventors: LEACH, Steven, C.; (US).
FOWLER, Jewett, W.; (US).
LITVAK, Herbert, E.; (US).
THOMSON, Mariste, A.; (US)
Agent: MACPHERSON, Alan, H.; Skjerven, Morrill, MacPherson, Franklin & Friel, 25 Metro Drive, Suite 700, San Jose, CA 95110 (US)
Priority Data:
578,056 05.09.1990 US
Title (EN) METHOD OF ENDPOINT DETECTION AND STRUCTURE THEREFOR
(FR) METHODE DE DETECTION DU POINT TERMINAL ET STRUCTURE A CET EFFET
Abstract: front page image
(EN)Methods for enhancing the accuracy for detecting the endpoint of certain operations (such as etching, photoresist development or chemical reaction) in the processing of materials which results in a change in the reflectivity or refractive index of the material are provided. The methods decrease the sensitivity of endpoint detection to high frequency noise and periodic oscillations. The methods also allow accurate calculation of overprocessing time and real-time viewing of data by the user.
(FR)Méthodes permettant de détecter avec une plus grande précision le point terminal de certaines opérations (telles que gravure, traitement d'une résine photosensible ou réaction chimique) de traitement de matériaux ayant pour but de modifier le pouvoir de réflexion ou l'indice de réfraction du matériau. Lesdites méthodes assurent une détection du point terminal moins sensible au bruit de haute fréquence et aux oscillations périodiques. Ces méthodes permettent aussi un calcul précis de la durée de surtraitement et la visualisation en temps réel des données par l'utilisateur.
Designated States: CA, JP, KR.
European Patent Office (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FR, GB, GR, IT, LU, NL, SE).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)