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1. (WO1992003720) ANALYTICAL DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/1992/003720    International Application No.:    PCT/GB1991/001161
Publication Date: 05.03.1992 International Filing Date: 12.07.1991
Chapter 2 Demand Filed:    19.02.1992    
IPC:
G01N 21/55 (2006.01), G01N 33/543 (2006.01)
Applicants: FISONS PLC [GB/GB]; Fison House, Princes Street, Ipswich, Suffolk IP1 1QH (GB) (For All Designated States Except US).
MAULE, Colin, Hugh [GB/GB]; (GB) (For US Only)
Inventors: MAULE, Colin, Hugh; (GB)
Agent: JONES, Stephen, Anthony; E.N. Lewis & Taylor, 144 New Walk, Leicester LE1 7JA (GB)
Priority Data:
9018126.4 17.08.1990 GB
9018127.2 17.08.1990 GB
Title (EN) ANALYTICAL DEVICE
(FR) DISPOSITIF ANALYSEUR
Abstract: front page image
(EN)A sensor, particularly a resonant optical biosensor based on the principle of frustrated total reflection, includes an optical structure comprising: a) a cavity layer (3) of transparent dielectric material of refractive index n¿3?, b) a dielectric substrate (1) of refractive index n¿1?, and c) interposed between the cavity layer (3) and the substrate (1), a dielectric spacer layer (2) of refractive index n¿2?. The arrangement is such that the optical structure may be illuminated by a beam of incident radiation, internal reflection occurring at the interface between the substrate (1) and the spacer layer (2). The device is characterised in that the cavity layer (3) or the spacer layer (2) absorbs at the wavelength of the incident radiation. The cavity layer (3) or the spacer layer (2) comprises a material which is either absorbing or is doped with an absorbing species, most preferably a fluorophore.
(FR)Un capteur, notamment un capteur biologique optique et résonant basé sur le principe de la réflexion totale frustrée, comprend une structure optique comportant: a) une couche à cavité (3) en matériau diélectrique transparent présentant un indice de réfraction n¿1?; et c) une couche diélectrique d'écartement (2) présentant un indice de réfraction n¿2? et intercalée entre la couche à cavité (3) et le substrat (1). Cet agencement permet à un faisceau de rayonnement incident d'éclairer la structure optique de sorte que la réflexion interne se produise au niveau de l'interface entre le substrat (1) et la couche d'écartement (2). Le dispositif est caractérisé en ce que la couche à cavité (3) ou la couche d'écartement (2) est absorbante à la longueur d'onde du rayonnement incident. La couche à cavité (3) ou la couche d'écartement (2) comporte un matériau absorbant ou dopé avec un constituant absorbant, de préférence un fluorogène.
Designated States: JP, US.
European Patent Office (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FR, GB, GR, IT, LU, NL, SE).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)