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1. (WO1992003495) METHOD OF PRODUCING BIAXIALLY ORIENTED POLYETHER ETHER KETONE FILM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/1992/003495    International Application No.:    PCT/JP1990/001058
Publication Date: 05.03.1992 International Filing Date: 21.08.1990
IPC:
B29C 55/00 (2006.01), B29C 55/14 (2006.01), B29C 71/00 (2006.01), C08J 5/18 (2006.01)
Applicants: MITSUI TOATSU CHEMICALS, INCORPORATED [JP/JP]; 2-5, Kasumigaseki 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 100 (JP) (For All Designated States Except US).
MATSUMURA, Shuji [JP/JP]; (JP) (For US Only).
OKADA, Kazunari [JP/JP]; (JP) (For US Only).
OHTA, Yasuhiko [JP/JP]; (JP) (For US Only).
SARUWATARI, Masumi [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: MATSUMURA, Shuji; (JP).
OKADA, Kazunari; (JP).
OHTA, Yasuhiko; (JP).
SARUWATARI, Masumi; (JP)
Agent: WAKABAYASHI, Tadashi; 8th Floor, 16th Kowa Bldg., 9-20 Akasaka 1-chome, Minato-ku, Tokyo 107 (JP)
Priority Data:
Title (EN) METHOD OF PRODUCING BIAXIALLY ORIENTED POLYETHER ETHER KETONE FILM
(FR) PROCEDE DE PRODUCTION DE FILM EN POLYETHER ETHER CETONE A ORIENTATION BIAXIALE
Abstract: front page image
(EN)A biaxially oriented film of a polyether ether ketone (PEEK) having excellent accuracy, insulating properties and thermal shrinkage resistance is easily obtained from a noncrystalline PEEK film by roll stretching the film 1.5- to 3.5-fold in the machine direction while causing the necking of the film in the temperature range from 50 °C to Tg minus 10 °C, stretching the monoaxially stretched film 1.5- to 3.5-fold in the direction perpendicular to that of the first stretching in the temperature range from Tg to 170 °C, and heat setting the film thus stretched in two stages in the temperature ranges from 210 to 330° and from 180 to 210 °C.
(FR)L'invention se rapporte à un film à orientation biaxiale en polyéther ether cétone (PEEC), qui possède d'excellentes propriétés de précision, de pouvoir isolant et de résistance au retrait thermique et qu'on obtient facilement à partir d'un film en PEEC non cristallin en étirant au cylindre le film de 1,5 à 3,5 fois sa longueur dans le sens de la machine tout en produisant le rétrécissement du film dans la plage de température comprise entre 50 °C et la température de transformation (Tg) moins 10 °C, en étirant le film ainsi étiré monoaxialement de 1,5 à 3,5 fois sa longueur dans le sens perpendiculaire à celui du premier étirement, dans une gamme de température comprise entre Tg et 170 °C, puis en amenant le film ainsi étiré à thermodurcir en deux étapes dans les gammes de températures comprises entre 210 et 330 °C et entre 180 et 210 °C.
Designated States: US.
European Patent Office (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FR, GB, IT, LU, NL, SE).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)