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1. (WO1992001308) IMMINENT ENDPOINT DETECTION FOR PLASMA ETCH SYSTEM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/1992/001308    International Application No.:    PCT/US1991/004772
Publication Date: 23.01.1992 International Filing Date: 03.07.1991
Chapter 2 Demand Filed:    30.01.1992    
IPC:
H01J 37/32 (2006.01)
Applicants: VLSI TECHNOLOGY, INC. [US/US]; 1109 McKay Drive, San Jose, CA 95131 (US)
Inventors: GABRIEL, Calvin, T.; (US)
Agent: HICKMAN, Paul, L.; Hickman, Frazzini & King, Ten Almaden Boulevard, Suite 1100, San Jose, CA 95113 (US)
Priority Data:
549,511 06.07.1990 US
Title (EN) IMMINENT ENDPOINT DETECTION FOR PLASMA ETCH SYSTEM
(FR) DETECTION DU POINT FINAL IMMINENT POUR SYSTEME D'ATTAQUE AU PLASMA
Abstract: front page image
(EN)A method for detecting imminent end-point when plasma etching a dielectric layer (44) of a substrate (42) by monitoring the D.C. bias voltage of the cathode during the etching process. The D.C. bias voltage gives an indirect reading of the impedance of the substrate which changes appreciably just prior to etch-through of the dielectric layer. The plasma etching process is then terminated and a less damaging etch process is used to complete the etch-through of the dielectric layer. The apparatus of the present invention includes an A.C. blocking network (32) coupled to the cathode (16), an A/D converter (36) coupled to the blocking network and a digital signal analyzer (40) coupled to the A/D converter. Plasma etching can be automatically terminated by the signal analyzer upon the detection of imminent end-point.
(FR)Procédé de détection du point final imminent lors de l'attaque au plasma d'une couche diélectrique (44) d'un substrat (42) en contrôlant la tension de préaimantation en courant continu de la cathode pendant le processus d'attaque. Ladite tension de préaimantation en courant continu donne un relevé indirect de l'impédance du substrat qui se modifie considérablement juste avant le point final de corrosion de la couche diélectrique. Le processus de corrosion au plasma est alors terminé et un processus de corrosion produisant moins de dommages est utilisé pour parachever la corrosion de la couche diélectrique. L'appareil de la présente invention comprend un réseau de blocage du courant alternatif (32) couplé à la cathode (16), un convertisseur analogique-numérique (36) couplé au réseau de blocage et un analyseur de signaux numériques (40) couplé au convertisseur analogique-numérique. La corrosion au plasma peut être stoppée automatiquement par l'analyseur de signaux à la détection du point final imminent.
Designated States: JP, KR.
European Patent Office (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FR, GB, GR, IT, LU, NL, SE).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)