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1. (WO1991018313) PROJECTED IMAGE FOCUS SYSTEM AND METHOD OF USE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau

Pub. No.: WO/1991/018313 International Application No.: PCT/US1991/003536
Publication Date: 28.11.1991 International Filing Date: 20.05.1991
Chapter 2 Demand Filed: 20.12.1991
IPC:
G02B 21/24 (2006.01) ,G02B 21/26 (2006.01)
G PHYSICS
02
OPTICS
B
OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
21
Microscopes
24
Base structure
G PHYSICS
02
OPTICS
B
OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
21
Microscopes
24
Base structure
26
Stages; Adjusting means therefor
Applicants:
INTERACTIVE VIDEO SYSTEMS, INC. [US/US]; 45 Winthrop Street Concord, MA 01742, US
Inventors:
SAPORETTI, Eutimio, A.; US
INTO, Stephen, W.; US
Agent:
KUDIRKA, Paul, E.; Wolf, Greenfield & Sacks 600 Atlantic Avenue Boston, MA 02210, US
Priority Data:
526,04921.05.1990US
Title (EN) PROJECTED IMAGE FOCUS SYSTEM AND METHOD OF USE
(FR) SYSTEME DE FOCALISATION D'IMAGE PROJETEE ET MODE D'EMPLOI
Abstract:
(EN) In a semiconductor process-control measurement system which forms an image of a semiconductor wafer surface and performs measurements by image processing techniques, a predetermined focussing pattern is optically projected onto the wafer surface by means of a microscope system used for obtaining the wafer image. Optical system focussing is then accomplished by adjusting the optical system until the projected pattern (rather than a physical edge of a feature on the wafer itself) is in focus.
(FR) Dans un système de mesure de commande-traitement de semi-conducteurs formant une image d'une surface de tranche de semi-conducteur et effectuant des mesures selon des techniques de traitement d'image, une configuration de focalisation prédéterminée est optiquement projetée sur la surface de la tranche au moyen d'un système de microscope utilisé pour obtenir l'image de la tranche. Ensuite, on procède à une focalisation du système optique en règlant ledit système optique jusqu'à ce que la configuration projetée (au lieu d'un bord physique d'une caractéristique sur la tranche elle-même) soit focalisée.
Designated States: JP, KR
European Patent Office (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FR, GB, GR, IT, LU, NL, SE)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)