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1. WO1991000679 - TOROIDAL ELECTRON CYCLOTRON RESONANCE REACTOR

Publication Number WO/1991/000679
Publication Date 10.01.1991
International Application No. PCT/US1990/003528
International Filing Date 21.06.1990
Chapter 2 Demand Filed 17.01.1991
IPC
H01J 37/32 2006.01
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes
CPC
H01J 37/32357
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
32357Generation remote from the workpiece, e.g. down-stream
Applicants
  • MASSACHUSETTS INSTITUTE OF TECHNOLOGY [US/US]; 77 Massachusetts Avenue Cambridge, MA 02139, US
Inventors
  • LANE, Barton, G.; US
  • SAWIN, Herbert, H.; US
  • SMATLAK, Donna, L.; US
Agents
  • REYNOLDS, Leo, R. ; Hamilton, Brook, Smith & Reynolds Two Militia Drive Lexington, MA 02173, US
Priority Data
370,59423.06.1989US
Publication Language English (EN)
Filing Language English (EN)
Designated States
Title
(EN) TOROIDAL ELECTRON CYCLOTRON RESONANCE REACTOR
(FR) REACTEUR TOROIDAL A RESONANCE CYCLOTRONIQUE ELECTRONIQUE
Abstract
(EN)
A toroidal ECR reactor is described in which a poloidal magnetic field is established in a plasma generating chamber (40) in which a specimen to be processed is disposed on an electrode in a specimen chamber (30). Microwaves and gaseous reactants are introduced into the plasma generating chamber (40). A plasma discharge occurs in which high energy electrons are confined in a plasma source region extending between a magnetic mirror formed in the specimen chamber out of line-of-sight to the wafer(s) (50) when disposed on the electrode. A baffle region (61) formed between the two chambers prevents microwaves from entering the specimen chamber. The reactor is particularly suitable for etching or depositing films on semiconductor substrates, since the sensitive substrates are not exposed to the high energy ions and/or photons of the source region.
(FR)
Est décrit un réacteur toroïdal à résonance cyclotronique électronique dans lequel un champ magnétique poloïdal est établi dans une chambre de production de plasma (40) dans laquelle une éprouvette à traiter est disposée sur une électrode dans une chambre d'éprouvette (30). Des micro-ondes et des réactifs gazeux sont introduits dans la chambre de production de plasma (40). Il se produit une décharge de plasma dans laquelle des électrons haute énergie sont confinés dans une région source de plasma s'étendant entre un miroir magnétique formé dans la chambre d'éprouvette hors la ligne de collimation jusqu'à la ou les tranches (50) disposées sur l'électrode. Une région de chicanes (61) formée entre les deux chambres empêche les micro-ondes de pénétrer dans la chambre d'éprouvette. Le réacteur convient notamment pour graver ou déposer des films sur des substrats semi-conducteurs, les substrats sensibles n'étant pas exposés aux ions haute énergie et/ou aux photons de la région source.
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