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1. (WO1990004211) SYNERGISTIC INITIATOR COMPOSITIONS FOR THE VISIBLE LIGHT FABRICATION AND POSTCURE OF STEREOLITHOGRAPHIC OBJECTS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/1990/004211    International Application No.:    PCT/US1989/004439
Publication Date: 19.04.1990 International Filing Date: 05.10.1989
IPC:
G03F 7/00 (2006.01), G03F 7/031 (2006.01)
Applicants: DESOTO, INC. [US/US]; 1700 South Mount Prospect Road, Box 5030, Des Plaines, IL 60017 (US)
Inventors: MURPHY, Edward, J.; (US).
KRAJEWSKI, John, J.; (US).
ANSEL, Robert, E.; (US)
Agent: KATZ, Martin, L.; Dressler, Goldsmith, Shore, Sutker & Milnamow, Ltd., 1800 Prudential Plaza, Chicago, IL 60601 (US)
Priority Data:
254,340 11.10.1988 US
Title (EN) SYNERGISTIC INITIATOR COMPOSITIONS FOR THE VISIBLE LIGHT FABRICATION AND POSTCURE OF STEREOLITHOGRAPHIC OBJECTS
(FR) COMPOSITIONS D'AMORÇAGE SYNERGIQUE POUR LA FABRICATION ET LE POST-DURCISSEMENT PAR LUMIERE VISIBLE D'OBJETS STEREOLITHOGRAPHIQUES
Abstract: front page image
(EN)A liquid composition photopolymerizable with visible light comprises a photopolymerizable ethylenically unsaturated liquid which is polymerizable by free-radical polymerization containing, based on the weight of the photopolymerizable ethylenically unsaturated material contained therein: (1) from about 0.1 % to about 5 % of a photoreducible phthalein dye; (2) from about 0.5 % to about 10 % of an aliphatic tertiary amine; and (3) from about 1 % to about 8 % of a ketonic photoinitiator. This is a composition suitable for many purposes including coating operations and preferably a stereolithographic process.
(FR)Une compostion liquide photopolymérisable à l'aide de lumière visible, comprend un liquide photopolymérisable non saturé d'éthylène polymérisable par polymérisation des radicaux libres, contenant, sur la base du poids de la matière photopolymérisable non saturée d'éthylène contenue dans ladite composition: (1) environ 0,1 % à environ 5 % d'un colorant de phtaléine photoréductible; (2) environ 0,5 % à environ 10 % d'une amine tertiaire aliphatique; et (3) environ 1 % à environ 8 % d'une photoamorce cétonique. Cette préparation est indiquée pour des opérations de revêtement et de préférence pour un procédé stéréolithographique.
Designated States: JP.
European Patent Office (AT, BE, CH, DE, FR, GB, IT, LU, NL, SE).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)