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1. (WO1990002217) ELEMENTAL MERCURY SOURCE FOR METAL-ORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/1990/002217    International Application No.:    PCT/US1989/003046
Publication Date: 08.03.1990 International Filing Date: 17.07.1989
IPC:
C23C 16/30 (2006.01), C23C 16/448 (2006.01), C30B 25/12 (2006.01)
Applicants: SANTA BARBARA RESEARCH CENTER [US/US]; 75 Coromar Drive, Goleta, CA 93117 (US)
Inventors: AHLGREN, William, L.; (US)
Agent: SCHUBERT, William, C.; Hughes Aircraft Company, Post Office Box 45066, Bldg. C1, M/S A-126, Los Angeles, CA 90045-0066 (US)
Priority Data:
234,722 22.08.1988 US
Title (EN) ELEMENTAL MERCURY SOURCE FOR METAL-ORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION
(FR) SOURCE DE MERCURE ELEMENTAIRE POUR DEPOSITION EN PHASE GAZEUSE PAR PROCEDE CHIMIQUE ORGANOMETALLIQUE
Abstract: front page image
(EN)Apparatus and method for supplying elemental mercury to an MOCVD reactor during the operation of the reactor and for maintaining a saturated mercury vapor atmosphere over a surface of a substrate. A susceptor assembly (10) includes a susceptor (20) having a surface for supporting a substrate (22) within a growth chamber. A reservoir (34) of liquid mercury (36) is disposed external to the reactor and supplies liquid mercury via a capillary feed tube (30) to a depression or trough (24) formed within a surface of the susceptor at an upstream position from the substrate. Mercury within the trough is vaporized by the heated susceptor and flows over the substrate, thereby establishing a saturated mercury atmosphere over the substrate. The reservoir may be pressurized by a source of gas or its vertical position may be adjusted to provide a gravity feed of the mercury.
(FR)L'appareil et le procédé décrits servent à alimenter en mercure élémentaire un réacteur de déposition en phase gazeuse par procédé chimique organométallique, pendant le fonctionnement du réacteur, et à maintenir une atmosphère de vapeur de mercure saturée sur une surface d'un substrat. Un assemblage à support réfractaire (''suscepteur'') (10) comporte un support réfractaire (''suscepteur'') (20) dont une surface sert à soutenir un substrat (22) à l'intérieur d'une chambre d'accroissement. Un réservoir (34) de mercure liquide (36) est disposé à l'extérieur du réacteur et alimente en mercure liquide via un tube d'alimentation capillaire (30) une dépression ou une cuvette (24) formée dans une surface du support réfractaire au niveau d'une position amont par rapport au substrat. Le mercure contenu dans la cuvette est vaporisé par le support réfractaire chauffé et s'écoule sur le substrat, créant ainsi une atmosphère de mercure saturée sur le substrat. Le réservoir peut être pressurisé par une source de gaz ou sa position verticale peut être réglée pour permettre une alimentation par gravité en mercure.
Designated States: JP.
European Patent Office (DE, FR, GB, IT, NL).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)