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1. (WO1989010000) PLASMA-ASSISTED HIGH-POWER MICROWAVE GENERATOR
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/1989/010000    International Application No.:    PCT/US1989/000857
Publication Date: 19.10.1989 International Filing Date: 06.03.1989
IPC:
H01J 25/00 (2006.01)
Applicants: HUGHES AIRCRAFT COMPANY [US/US]; 7200 Hughes Terrace, Los Angeles, CA 90045-0066 (US)
Inventors: SCHUMACHER, Robert, W.; (US).
HYMAN, Julius, Jr.; (US).
HARVEY, Robin, J.; (US).
SANTORU, Joseph; (US)
Agent: DURAISWAMY, Vijayalakshmi, D. @; Hughes Aircraft Company, P.O. Box 45066, Bldg. C1, MS A126, Los Angeles, CA 90045-0066 (US)
Priority Data:
181,279 14.04.1988 US
Title (EN) PLASMA-ASSISTED HIGH-POWER MICROWAVE GENERATOR
(FR) GENERATEUR DE MICRO-ONDES DE HAUTE PUISSANCE ASSISTE PAR PLASMA
Abstract: front page image
(EN)A high-power microwave/mm-wave oscillator is filled with an ionizable gas at a pressure of about 1-20 mTorr, into which an electron beam (34) is injected at a high current density of at least about 1 amp/cm?2¿, but typically 50-100 A/cm?2¿. A plasma is formed which inhibits space-charge blowup of the beam, thereby eliminating the prior requirement of a magnet system to control the beam. The system functions as a slow-wave tube to produce narrow-band microwaves for a gas pressure of about 1-5 mTorr, and as a plasma wave tube to produce broadband microwave/mm-wave radiation for a gas pressure of about 10-20 mTorr. A new high output, hollow-cathode-plasma electron gun is employed in which a metal oxide layer is formed on the inner surface to enhance the secondary electron yield; a cathode (2), grid (4), and extraction anode (12) have respective sets of multiple apertures (30) which are mutually aligned to yield a high perveance beam; the cathode, grid, and anode are curved to geometrically focus the beam, and a beam with a circular cross-section is generated.
(FR)Un oscillateur de micro-ondes/mm-ondes de haute puissance est rempli d'un gaz ionisable sous une pression comprise entre 1 et 20 mTorr environ dans lequel est injecté un faisceau électronique (34) à une intensité élevée de courant d'au moins 1 amp/cm?2¿ environ, mais typiquement comprise entre 50 et 100 A/cm?2¿. Un plasma se forme qui inhibe l'explosion de la charge d'espace du faisceau, éliminant la nécessité, dans l'état antérieur de la technique, de prévoir un système à aimants pour commander le faisceau. Le système fonctionne comme un tube à ondes lentes, produisant des micro-ondes à bande étroite sous une pression de gaz de 1 à 5 mTorr environ, et comme un tube à ondes de plasma produisant des rayonnements à micro-ondes/mm-ondes à large bande sous une pression de gaz 10 et 20 mTorr environ. Un pistolet à plasma d'électrons et à cathode creuse de haut rendement comprend une couche d'oxyde métallique formée sur sa surface intérieure afin d'améliorer la sortie électronique secondaire; une cathode (2), une grille (4) et une anode (12) d'extraction comprennent des ensembles respectifs d'ouvertures multiples (30) mutuellement alignées de façon à produire un faisceau de haute pervéance. La cathode, la grille et l'anode sont courbées afin de focaliser géométriquement le faisceau et de générer ainsi un faisceau à section transversale circulaire.
Designated States: JP.
European Patent Office (DE, FR, GB, IT, SE).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)