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1. (WO1989004337) NEW SOLUBLE AND/OR MELTABLE POLYAMIDE-POLYAMIDE, POLYAMIDE-POLYAMIDEIMIDE AND POLYAMIDE-POLYIMIDE BLOCK COPOLYMERS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/1989/004337    International Application No.:    PCT/EP1988/001020
Publication Date: 18.05.1989 International Filing Date: 10.11.1988
Chapter 2 Demand Filed:    26.06.1989    
IPC:
C08G 69/32 (2006.01), C08G 73/14 (2006.01), C08G 81/00 (2006.01)
Applicants: CHEMIE LINZ GESELLSCHAFT M.B.H. [AT/AT]; St. Peter-Straße 25, A-4021 Linz (AT) (For All Designated States Except US).
GREBER, Gerd [AT/AT]; (AT) (For US Only).
GRUBER, Heinrich [AT/AT]; (AT) (For US Only).
SYCHRA, Marcel [AT/AT]; (AT) (For US Only)
Inventors: GREBER, Gerd; (AT).
GRUBER, Heinrich; (AT).
SYCHRA, Marcel; (AT)
Agent: KUNZ, Ekkehard; Chemie Holding AG, Patentwesen, St. Peter-Straße 25, A-4021 Linz (AT)
Priority Data:
P 37 38 458.9 12.11.1987 DE
Title (EN) NEW SOLUBLE AND/OR MELTABLE POLYAMIDE-POLYAMIDE, POLYAMIDE-POLYAMIDEIMIDE AND POLYAMIDE-POLYIMIDE BLOCK COPOLYMERS
(FR) NOUVEAUX COPOLYMERES BLOC POLYAMIDE-POLYAMIDE, POLYAMIDE-POLYAMIDEIMIDE ET POLYAMIDE-POLYIMIDE SOLUBLES ET/OU FUSIBLES
Abstract: front page image
(EN)Soluble and/or meltable polyamide-polyamide (PA-PA¿1?), polyamide-polyamideimide (PA-PAI) or polyamide-polyimide (PA-PI) block copolymers of general formula (I) in which n is a whole number from 1 to 200, x is a whole number from 1 to 20, R¿1? is a divalent aromatic residue, R is the residue of general formula (II) and a) in the case of the PA-PA¿1? block copolymers, X is the residue -NH-, Y is the residue -NH-CO-, where in each case N is bonded to R and B is a residue of general formula (III), where y is a whole number from 1 to 20, R¿2? is a divalent aromatic residue and R¿3? is a divalent aromatic residue different from R, b) in the case of the PA-PAI block copolymers, either: X is the residue = N-, Y is the residue -NH- and B is the residue of general formula (IV), where Ar is a trivalent aromatic residue, or: X and Y are the residue = N- and B is the residue of general formula (V), where Y is a whole number from 0 to 20 and R¿3? is R or a divalent aromatic residue and Ar is as defined above, c) in the case of the PA-PI block copolymers, X and Y are the residue = N- and B is the residue of general formula (VI), where y is a whole number from 0 to 20 and R¿3? is R or a divalent aromatic residue and Ar is a tetravalent aromatic residue. Also described is a process for their manufacture.
(FR)Copolymères bloc polyamide-polyamide (PA-PA¿1?), polyamide-polyamideimide (PA-PAI) ou polyamide-polyimide (PA-PI) de formule générale (I) dans laquelle n est un entier valant de 1 à 200, x est un entier valant de 1 à 20, R¿1? est un résidu aromatique bivalent, R représente le résidu de formule générale (II), ainsi que a) dans le cas des copolymères bloc PA-PA¿1?, X représente le résidu -NH-, Y le résidu -NH-CO-, N étant respectivement lié à R, et B représente un résidu de formule générale (III), où y est un entier valant de 1 à 20, R¿2? est un résidu aromatique bivalent et R¿3? est un résidu aromatique bivalent différent de R; b) dans le cas des copolymères bloc PA-PAI, soit X est le résidu = N-, Y le résidu -NH- et B le résidu de formule générale (IV), où Ar représente un résidu aromatique trivalent, soit X et Y représentent le résidu = N- et B le résidu de formule générale (V), où y représente un entier valant de 0 à 20 et R¿3? représente R ou un résidu aromatique bivalent, et Ar a la notation précitée; c) dans le cas des copolymères bloc PA-PI, X et Y représentent le résidu = N- et B le résidu de formule générale (VI), où y est un entier valant de 0 à 20 et R¿3? représente R ou un résidu aromatique bivalent, et Ar un résidu aromatique tétravalent. Est également décrit un procédé pour leur fabrication.
Designated States: JP, US.
European Patent Office (AT, BE, CH, DE, FR, GB, IT, LU, NL, SE).
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)