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1. (WO1987006389) SEMICONDUCTOR DOPANT VAPORIZER
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/1987/006389    International Application No.:    PCT/US1986/000737
Publication Date: 22.10.1987 International Filing Date: 09.04.1986
IPC:
H01J 27/02 (2006.01)
Applicants: J.C. SCHUMACHER COMPANY [US/US]; 4039 Avenida De La Plata, Oceanside, CA 92054 (US) (For All Designated States Except US).
HOFFMAN, Gregory, C. [US/US]; (US) (For US Only).
LOGAN, Mark, A. [US/US]; (US) (For US Only).
CARMAN, Justice, N. [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: HOFFMAN, Gregory, C.; (US).
LOGAN, Mark, A.; (US).
CARMAN, Justice, N.; (US)
Agent: HUBBARD, Grant, L.; 300 South Harbor Boulevard, Suite 805, Anaheim, CA 92805 (US)
Priority Data:
Title (EN) SEMICONDUCTOR DOPANT VAPORIZER
(FR) VAPORISATEUR DE DOPANT SEMICONDUCTEUR
Abstract: front page image
(EN)Apparatus and methods for introducing ion source material (400) into an ion source. A vaporizer unit (200) which is removable from the system is prepared for insertion into the ion implant equipment outside the system. It is cleaned, a new vial (400) of ion source material is introduced and it may be preheated to degas it or to prepare it for use in the system. The vaporizer unit which is currently in use is removed, to be cleaned and recharged, and the previously prepared vaporizer unit is inserted, sealed in place and the vacuum established. The ion implant system is, then, ready to resume operation with minimal down time. The vaporizer unit comprises a vaporizer block (200) of hight heat conductive material such as copper which includes three cavities or wells. One cavity contains a heater, one a gas flow path for heating (240) and/or cooling (230), and one contains a sealed vial of semiconductor dopant. Wells (222) for temperature sensors are also provided, as are means (310) for breaking or puncturing the vial once the ion implant system is ready for operation. The evaporator block is mounted, when in use, in the vacuum chamber of the ion implant device, and is connected through gas-tight seals with a face plate (100) which forms a seal closing the vacuum chamber and supporting the vaporizer block. An external operator (148) is provided for transmitting movement into the system for breaking the vial at the desired time.
(FR)Appareil et procédés d'introduction d'un matériau de source d'ions (400) dans une source d'ions. Un vaporisateur (200) que l'on peut enlever du système, est préparé en vue de son introduction dans le matériel d'implantation d'ions extérieur. Il est nettoyé, une nouvelle fiole (400) de matériau source d'ions est introduite et elle peut être préchauffée pour la dégazer ou pour la préparer dans le but de l'utiliser dans le système. Le vaporisateur actuellement utilisé est retiré pour être nettoyé et rechargé, et le vaporisateur préparé antérieurement est introduit, scellé hermétiquement et le vide est fait. Le système d'implantation d'ions est ensuite prêt à fonctionner à nouveau après un temps d'arrêt minimum. Le vaporisateur comprend un bloc vaporisateur (200) en matériau hautement thermoconducteur tel que du cuivre, lequel présente trois cavités ou puits. Une cavité contient un dispositif chauffant, une autre un passage d'écoulement de gaz pour chauffer (240) et/ou refroidir (230) et une autre contient une fiole hermétiquement scellée contenant un dopant semiconducteur. Des puits (222) pour des capteurs de température sont également prévus ainsi que des moyens (310) pour casser ou perforer la fiole dès que le système d'implantation d'ions est prêt à fonctionner. Le bloc évaporateur est monté, lorsqu'il est en utilisation, dans la chambre à vide du dispositif d'implantation d'ions, et il est connecté par l'intermédiaire de joints étanches aux gaz à un plateau (100) qui forme un joint hermétique fermant la chambre à vide et supportant le bloc vaporisateur. Un opérateur extérieur (148) transmet le mouvement au système pour casser la fiole au moment voulu.
Designated States: AU, DK, FI, JP, KP, MC, NO, SU, US.
European Patent Office (AT, BE, CH, DE, FR, GB, IT, LU, NL, SE).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)