WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO1983002243) DECONTAMINATION METHOD AND APPARATUS FOR SEMICONDUCTOR WAFER HANDLING EQUIPMENT
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/1983/002243    International Application No.:    PCT/US1982/001154
Publication Date: 07.07.1983 International Filing Date: 23.08.1982
IPC:
B08B 3/02 (2006.01), H05F 3/00 (2006.01)
Applicants: NUTECHNOMEX LIMITED [US/US]; 2350 Charleston Road, Mountain View, CA 94043 (US)
Inventors: BARDINA, Juan; (US).
GONZALEZ, Mikel; (US)
Priority Data:
335,765 30.12.1981 US
Title (EN) DECONTAMINATION METHOD AND APPARATUS FOR SEMICONDUCTOR WAFER HANDLING EQUIPMENT
(FR) PROCEDE ET DISPOSITIF DE DECONTAMINATION POUR UN EQUIPEMENT DE MANIPULATION DE TRANCHES A SEMICONDUCTEURS
Abstract: front page image
(EN)Method and apparatus (10) for decontaminating certain types of semiconductor wafer handling equipment. The apparatus (10) includes a frame (11) having structure (21) or (40) for applying decontaminating and electrostatic elimination fluid to handling equipment. It includes a first chamber (12) and a second chamber (14). The first chamber (12) removes contaminants from handling equipment and restricts the removed contaminants to the first chamber. The second chamber (14) includes structure (29) for drying handling equipment. The apparatus further includes structure (40) for removing static from dried handling equipment.
(FR)Procédé et dispositif (10) servant à la décontamination de certains types d'équipement de manipulation de tranches à semiconducteurs. Le dispositif (10) comprend un cadre (11) possédant une structure (21 ou 40) permettant d'appliquer à l'équipement de manipulation un fluide de décontamination et d'élimination des charges électrostatiques. Il comprend une première chambre (12) et une deuxième chambre (14). La première chambre (12) élimine les substances contaminantes de l'équipement de manipulation et isole dans la première chambre les substances contaminantes éliminées. La deuxième chambre (14) comprend une structure (29) de séchage de l'équipement de manipulation. Le dispositif comprend en outre une structure (40) permettant d'éliminer les charges statiques de l'équipement de manipulation séché.
Designated States: JP.
European Patent Office (AT, BE, CH, DE, FR, GB, LU, NL, SE).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)