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1. (WO1982004133) APPARATUS FOR PROJECTING A SERIES OF IMAGES ONTO DIES OF A SEMICONDUCTOR WAFER
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/1982/004133    International Application No.:    PCT/US1982/000668
Publication Date: 25.11.1982 International Filing Date: 17.05.1982
IPC:
G02B 13/24 (2006.01), G02B 17/08 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01), G03F 9/00 (2006.01)
Applicants: GENERAL SIGNAL CORPORATION [US/US]; High Ridge Park, Stamford, CT 06904 (US).
HERSHEL, Ronald, S. [US/US]; (US).
LEE, Martin, E. [US/US]; (US)
Inventors: HERSHEL, Ronald, S.; (US).
LEE, Martin, E.; (US)
Agent: SNEE, Charles, E., III; 1990 M Street, N.W., Washington, DC 20036 (US)
Priority Data:
264,171 15.05.1981 US
264,249 15.05.1981 US
378,370 14.05.1982 US
Title (EN) APPARATUS FOR PROJECTING A SERIES OF IMAGES ONTO DIES OF A SEMICONDUCTOR WAFER
(FR) APPAREIL DE PROJECTION D'UNE SERIE D'IMAGES SUR DES DES D'UNE TRANCHE A SEMICONDUCTEUR
Abstract: front page image
(EN)An apparatus for forming on a semiconductor wafer unit magnification images of a reticle pattern. A reticle (20-30) containing an image pattern corresponding to the size of the desired wafer pattern is substantially uniformly illuminated (34-47) to produce an image which passes through a one-to-one stationary projection optical system (50-59) to form an image of the reticle pattern at a predetermined focal plane. A selectively positionable vacuum chuck (79-83, 201, 202, 302, 303) holds the wafer. An alignment system (60- 78) steps and orients the chuck to register markings on the individual sides of the wafer with the projected image of corresponding markings on the reticle. A fluid servo system (100-139) acts on the chuck to hold at least a portion of the wafer in the predetermined focal plane of the projection optical system.
(FR)Appareil de formation sur une unite de tranche a semiconducteur d'images de grossissement d'une configuration de reticule. Un reticule (20-30) contenant une configuration d'images correspondant a la dimension de la configuration de la tranche desiree est illumine sensiblement uniformement (34-47) pour produire une image qui passe au travers d'un systeme optique de projection stationnaire un a un (50-59) pour former une image de la configuration de reticule a un plan focal predetermine. Un mandrin a vide positionnable selectivement (79-83, 201, 202, 302, 303) maintient la tranche. Un systeme d'alignement (60-78) fait marcher pas a pas et oriente le mandrin pour faire coincider les reperes sur les cotes individuels de la tranche avec l'image projetee des reperes correspondant sur le reticule. Un servo-systeme a fluide (100-139) agit sur le mandrin pour maintenir au moins une partie de la tranche dans un plan focal predetermine du systeme optique de projection.
Designated States: CH, DE, GB, JP, NL, SE.
European Patent Office (FR).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)