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1. (WO1981002736) PROCESS FOR TREATING SILICON PARTICLES WITHIN A SILICON REACTOR SYSTEM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/1981/002736    International Application No.:    PCT/US1981/000232
Publication Date: 01.10.1981 International Filing Date: 26.02.1981
IPC:
C07F 7/16 (2006.01)
Applicants:
Inventors:
Priority Data:
132718 24.03.1980 US
Title (EN) PROCESS FOR TREATING SILICON PARTICLES WITHIN A SILICON REACTOR SYSTEM
(FR) PROCEDE DE TRAITEMENT DE PARTICULES DE SILICIUM DANS UN REACTEUR AU SILICIUM
Abstract: front page image
(EN)Process for treating silicon particles in a silicon particles in a silicon reactor for the production of organochlorosilanes where an organo chloride is reacted with particles of silicon in the presence of particles of copper to produce organochlorosilanes comprising: removing particles of silicon and copper of less than 40 microns average diameter size from the reactor; abraiding said particles to remove the surface coating, and returning said particles to the reactor.
(FR)Procede de traitement de particules de silicium dans un reacteur de silicium pour la production d'organo-chlorosilanes, dans lequel on fait reagir un chlorure organique avec des particules de silicium en presence de particules de cuivre pour produire des organo-chlorosilanes, consistant a: extraire du reacteur les particules de silicium et de cuivre possedant un diametre moyen inferieur a 40 microns; attaquer par abrasion ces particules pour enlever le revetement de surface, et renvoyer ces particules au reacteur.
Designated States:
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)