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1. (WO1981000784) ELECTRON BEAM SYSTEM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/1981/000784    International Application No.:    PCT/US1980/001173
Publication Date: 19.03.1981 International Filing Date: 11.09.1980
IPC:
H01J 37/09 (2006.01), H01J 37/30 (2006.01)
Applicants:
Inventors:
Priority Data:
75354 13.09.1979 US
Title (EN) ELECTRON BEAM SYSTEM
(FR) SYSTEME DE RAYONS ELECTRONIQUES
Abstract: front page image
(EN)Electron beam lens (22) can be operated in a first mode to demagnify and focus the image of electron source (14) at image plane (32). Electron optical lenses (34) and (46) further demagnify the image plane (32) through the focal point (60) on the face of target (58) to provide a scannable exposure spot. Electron optical lens (22) can be operated in the second mode which floods aperture (32) so that the image of the aperture is demagnified and focused on target (58) to provide a large exposure area.
(FR)Une lentille a rayon electronique (22) peut fonctionner dans un premier mode pour reduire et focaliser l'image d'une source d'electrons (14) sur un plan image (32). Des lentilles optiques electroniques (34 et 46) reduisent le plan image (32) au travers du point focal (60) sur la face de la cible (58) pour obtenir un point d'exposition explorable. Une lentille optique electronique (22) peut fonctionner dans le second mode qui inonde de lumiere l'ouverture (32) de maniere a ce que l'image de l'ouverture soit reduite et focalisee sur la cible (58) pour donner une grande zone d'exposition.
Designated States:
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)