(EN) Systems and methods are provided for focusing a scanned ion beam in an ion implanter. A beam focusing system is provided, comprising first and second magnets providing corresponding magnetic fields that cooperatively provide a magnetic focusing field having a time-varying focusing field center generally corresponding to a time-varying beam position of a scanned ion beam along a scan direction. Methods are presented, comprising providing a focusing field having a focusing field center in the scan plane, and dynamically adjusting the focusing field such that the focusing field center is generally coincident with a time-varying beam position of the scanned ion beam along the scan direction.
© KIPO & WIPO 2007
(KO) 이온 주입기 내에 주사된 이온 빔을 집속하는 시스템 및 방법이 제공된다. 일반적으로 주사 방향을 따라 주사된 이온 빔의 시변 빔 위치에 대응하는 시변 집속장 센터를 가진 자기 집속장을 유기적으로 제공하는 대응하는 자기장을 제공하는 제 1 및 2 자석을 포함하는 빔 집속 시스템이 제공된다. 주사면 내에 집속장 센터를 가진 집속장을 제공하는 단계 및, 집속장 센터가 주사 방향을 따라 주사된 이온 빔의 시변 빔 위치와 일반적으로 일치하도록 집속장을 동적으로 조정하는 단계를 포함하는 방법이 제공된다.
