(EN) An improved focus ring configured for use in a plasma processing chamber is disclosed. The focus ring is configured to overlap at least a portion of a substrate-holding chuck that is powered by radio frequency (RF) power during plasma operation to act as an electrode. The focus ring includes an upper surface that is exposed to a plasma region within the plasma processing chamber during the plasma operation. The focus ring further includes a chuck-overlapping portion that overlaps the portion of the substrate- holding chuck, at least a portion of the chuck-overlapping portion being formed of a first material having a lower dielectric constant than a remainder of the focus ring.
© KIPO & WIPO 2007
(KO) 플라즈마 처리챔버에서 사용하도록 구성된 개선된 포커스 링이 발표된다. 본 포커스 링은 플라즈마 작동동안 고주파(RF) 전력에 의해 에너지를 받아 전극으로서 작용하는 기판-유지척의 적어도 일부를 중첩하도록 구성된다. 포커스 링은 플라즈마 작동동안 플라즈마 처리챔버내에서 플라즈마 영역에 노출되는 상부 표면을 가진다. 포커스 링은 또한 기판유지척의 부위를 중첩하는 척 중첩부위를 포함하며, 척 중첩부위의 적어도 일부는 포커스 링의 다른 부위보다 낮은 유전상수를 갖는 제 1 재료로 형성된다.
