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1. (KR1020180084797) 기판 액 처리 장치, 기판 액 처리 방법 및 기억 매체

Office : Republic of Korea
Application Number: 1020187014055 Application Date: 17.11.2016
Publication Number: 1020180084797 Publication Date: 25.07.2018
Publication Kind : A
Prior PCT appl.: Application Number: ; Publication Number:WO2017090505 Click to see the data
IPC:
H01L 21/67
H01L 21/02
H ELECTRICITY
01
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
L
SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21
Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
67
Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components
H ELECTRICITY
01
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
L
SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21
Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
02
Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
CPC:
H01L 21/67051
H01L 21/02052
H01L 21/6715
H01L 21/67253
Applicants: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Inventors: 코사이 카즈키
가이 요시히로
고시 겐타로
코미야 히로시
후지모토 세이야
오츠카 타카히사
Agents: 특허법인엠에이피에스
Priority Data: JP-P-2015-228833 24.11.2015 JP
Title: (KO) 기판 액 처리 장치, 기판 액 처리 방법 및 기억 매체
Abstract: front page image
(KO) 기판 처리 장치는, 기판(W)을 유지하는 기판 유지부(31)와, 기판 유지부에 의해 유지된 기판의 외주연보다 외측의 위치로부터, 기판의 표면의 적어도 중심부가 토출된 처리액의 액막에 의해 덮이도록, 기판의 표면을 향하여 처리액을 토출하는 외측 노즐(45)과, 외측 노즐의 높이 위치 또는 토출 각도를 변경할 수 있는 액추에이터(46, 90)를 구비한다.
Also published as:
CN108292599US20180337067WO/2017/090505