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1. (KR1020150100966) 알코올 화합물과 그 제조 방법, 락톤 화합물의 제조 방법, (메트)아크릴산에스테르와 그 제조 방법, 중합체와 그 제조 방법, 레지스트 조성물과 이것을 사용한 기판의 제조 방법

Office : Republic of Korea
Application Number: 1020157022793 Application Date: 14.06.2012
Publication Number: 1020150100966 Publication Date: 02.09.2015
Grant Number: Grant Date: 22.06.2016
Publication Kind : B1
Prior PCT appl.: Application Number: ; Publication Number:WO2012173209 Click to see the data
IPC:
C07D 493/18
G03F 7/004
G03F 7/20
C CHEMISTRY; METALLURGY
07
ORGANIC CHEMISTRY
D
HETEROCYCLIC COMPOUNDS
493
Heterocyclic compounds containing oxygen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system
12
in which the condensed system contains three hetero rings
18
Bridged systems
G PHYSICS
03
PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
F
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
7
Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printed surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004
Photosensitive materials
04
Chromates
G PHYSICS
03
PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
F
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
7
Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printed surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
20
Exposure; Apparatus therefor
Applicants: 미쯔비시 레이온 가부시끼가이샤
Inventors: 사꾸마, 사또시
세리자와, 마사시
야스다, 아쯔시
야다, 노부히사
마에다, 신니찌
Agents: 장수길
오현식
신수범
이석재
Priority Data: JP-P-2011-132183 14.06.2011 JP
JP-P-2011-210667 27.09.2011 JP
Title: (KO) 알코올 화합물과 그 제조 방법, 락톤 화합물의 제조 방법, (메트)아크릴산에스테르와 그 제조 방법, 중합체와 그 제조 방법, 레지스트 조성물과 이것을 사용한 기판의 제조 방법
Abstract: front page image
(KO) 용매 중에서, 식 (C)로 표현되는 화합물과, 디보란 및 보란 착체로 이루어지는 군에서 선택되는 붕소화제를 반응시켜 반응액을 얻는 히드로붕소화 반응 공정과, 상기 반응액을 과산화수소 처리한 후, 산을 첨가하여 pH0.5 내지 4로 하는 산 처리 공정을 갖는 방법에 의해, 불순물이 적은 알코올 화합물을 고수율로 제조할 수 있다. 식 중, A 내지 A은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 메틸기 또는 에틸기를 나타내고, X는 산소 원자, 황 원자, 메틸렌기 또는 에틸렌기를 나타낸다. 1 6 JPEG 112015081278264-pat00057.jpg 28 63
Also published as:
US20140134539JPWO2012173209KR1020130132660WO/2012/173209