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1. (JP4531131) 型の製造方法および型を用いた反射防止膜の製造方法

Office : Japan
Application Number: 2010513515T Application Date: 22.12.2009
Publication Number: 4531131 Publication Date: 25.08.2010
Grant Number: 4531131 Grant Date: 25.08.2010
Publication Kind : B1
Prior PCT appl.: Application Number:WOJP2009007140 ; Publication Number: Click to see the data
IPC:
C25D 11/4
C25D 11/24
C CHEMISTRY; METALLURGY
25
ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
D
PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; JOINING WORKPIECES BY ELECTROLYSIS; APPARATUS THEREFOR
11
Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
02
Anodisation
04
of aluminium or alloys based thereon
C CHEMISTRY; METALLURGY
25
ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
D
PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; JOINING WORKPIECES BY ELECTROLYSIS; APPARATUS THEREFOR
11
Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
02
Anodisation
04
of aluminium or alloys based thereon
18
After-treatment, e.g. pore-sealing
24
Chemical after-treatment
CPC:
C25D 11/12
B29C 33/3842
B29C 33/424
B29C 33/56
C25D 1/10
G02B 1/118
Applicants: ベースロード・エナジー・インコーポレイテッド; アメリカ合衆国97204オレゴン州ポートランド、サウスウエスト・サード・アベニュー818番
Inventors: アルバート・グレニアー
Priority Data: 2008333674 26.12.2008 JP
JP2009007140 22.12.2009 WO
Title: (JA) 型の製造方法および型を用いた反射防止膜の製造方法
Abstract:
(JA)


本発明のモスアイ用型の製造方法は、Alの含有量が99.99質量%未満のAl基材を用意する工程(a)と、Al基材を部分的に陽極酸化することによって、複数の微細な凹部を有するポーラスアルミナ層を形成する工程(b)と、工程(b)の後に、ポーラスアルミナ層を、アノードインヒビターを含むエッチング液に接触させることによって、ポーラスアルミナ層の複数の微細な凹部を拡大させる工程(c)と、工程(c)の後に、さらに陽極酸化することによって、複数の微細な凹部を成長させる工程(d)とを包含する。
【選択図】図1


Also published as:
JP2010168664EP2377970EP2383372US20100283165JPWO2010073636US20110012272
CN102027160IN3857/CHENP/2010BRPI0906259WO/2010/073636