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1. JP2020092034 - プラズマ処理装置

Office Japan
Application Number 2018229255
Application Date 06.12.2018
Publication Number 2020092034
Publication Date 11.06.2020
Publication Kind A
IPC
H05H 1/46
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY- CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
1Generating plasma; Handling plasma
24Generating plasma
46using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
CPC
H05H 1/46
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
HPLASMA TECHNIQUE
1Generating plasma; Handling plasma
24Generating plasma
46using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
Applicants 東京エレクトロン株式会社
Inventors 池田 太郎
北原 聡文
Agents 長谷川 芳樹
黒木 義樹
柏岡 潤二
Title
(JA) プラズマ処理装置
Abstract
(JA)

【課題】 プラズマの面内均一性を向上可能なプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】
このプラズマ処理装置は、処理容器1内に対向配置された上部電極5及び下部電極6を備え、これらの電極間の空間にプラズマを発生させるプラズマ処理装置において、VHF波の電力伝送路中に配置されたインピーダンス変換部(絶縁体ブロック2B)と、インピーダンス変換部を介してVHF波を径方向の外側に伝搬させる伝送部(VHF波導波路2)と、上部電極5の下方に設けられた上部誘電体7と、上部誘電体7の横方向端部の位置に設けられ、伝送部からのVHF波が入力されるVHF波導入部9とを備えている。
【選択図】図1

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