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1. JP2020091399 - 露光用光源装置

Office Japan
Application Number 2018228493
Application Date 05.12.2018
Publication Number 2020091399
Publication Date 11.06.2020
Publication Kind A
IPC
G02B 6/42
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
6Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
24Coupling light guides
42Coupling light guides with opto-electronic elements
G03F 7/20
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printed surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
20Exposure; Apparatus therefor
H01S 5/40
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
5Semiconductor lasers
40Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02-H01S5/30128
Applicants ウシオ電機株式会社
Inventors 林 賢志
三浦 雄一
Agents 特許業務法人 ユニアス国際特許事務所
Title
(JA) 露光用光源装置
Abstract
(JA)

【課題】複数の半導体レーザ光源を用いて、角度分布の均一性を向上させた光を供給する露光用光源装置を提供する。
【解決手段】複数の半導体レーザ光源と、複数の半導体レーザ光源に対応して配置され、半導体レーザ光源から出射された光線束を略平行の光線束に変換して出射する、複数のコリメート光学系と、コリメート光学系から出射された光線束が入射される入射面を含み、コリメート光学系から出射された光線束を集光する集光光学系12と、集光光学系から出射された光線束が集光する位置に配置された、円形状の入射面を含む光導波路とを備え、集光光学系の入射面における、半導体レーザ光源から出射されたそれぞれの光線束22は、仮想的に集光光学系の光軸15を中心に回転させて、同一の径方向に向かって並べたときに、隣接する光線束の一部が重なり、集光光学系の光軸からの距離が同一である光線束群に属する数の最大値と最小値の比率が2未満である。
【選択図】図3B

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