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イオン注入機内の走査イオンビームを集束するためのシステム及び方法が提供される。ビーム集束システムは、第1、第2磁石を備え、該第1、第2磁石は、協働して、走査方向に沿って走査イオンビームの時間的に変化するビーム位置ニ対応する時間的に変化する集束フィールド中心を有する磁気的な集束フィールドを与える。この方法は、走査平面内に集束フィールド中心を有する集束フィールドを与える工程と、集束フィールド中心が、走査方向に沿って走査イオンビームの時間的に変化するビーム位置にほぼ一致するように集束フィールドを動的に調整する工程とを含んでいる。