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1. (JP2015517101) 微粒子汚染測定方法及び装置

Office : Japan
Application Number: 2015502369 Application Date: 28.03.2013
Publication Number: 2015517101 Publication Date: 18.06.2015
Publication Kind : A
IPC:
G01N 1/02
G03F 7/20
G PHYSICS
01
MEASURING; TESTING
N
INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
1
Sampling; Preparing specimens for investigation
02
Devices for withdrawing samples
G PHYSICS
03
PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
F
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
7
Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printed surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
20
Exposure; Apparatus therefor
Applicants: エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
ティー・エヌ・オー
Inventors: デ ヨング,アンソニウス
ヴァン デル ドンク,ジェイクス
Agents: 稲葉 良幸
大貫 敏史
Priority Data: 61/619,209 02.04.2012 US
Title: (JA) 微粒子汚染測定方法及び装置
Abstract: front page image
(JA)

【課題】高い清浄度要件に適合し、除去可能な微粒子を制御された方法で収集する簡単な方法を提供する新規の微粒子汚染測定装置及び方法を提供する。
【解決手段】微粒子汚染測定方法及び装置が開示される。本方法は、例えば、ポリウレタンエラストマー(2)の測定面(5)を、測定される表面(7)に押圧するステップと、残留物を残さずに表面からポリウレタンエラストマーを除去するステップと、光学装置(11)を使用して、ポリウレタンエラストマーによって除去されポリウレタンエラストマーに付着した微粒子(8)を検出するステップと、を含む。
【選択図】図5


Also published as:
EP2834709US20150055127KR1020150013483CN104204954JP6282260WO/2013/149961