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1. EP2557629 - CYLINDRICAL PLASMA RESONANT CAVITY

Office
European Patent Office
Application Number 10849310
Application Date 01.12.2010
Publication Number 2557629
Publication Date 13.02.2013
Publication Kind B1
IPC
H01P 7/06
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
PWAVEGUIDES; RESONATORS, LINES OR OTHER DEVICES OF THE WAVEGUIDE TYPE
7Resonators of the waveguide type
06Cavity resonators
C23C 16/511
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
16Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition (CVD) processes
44characterised by the method of coating
50using electric discharges
511using microwave discharges
H01J 37/32
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes
CPC
H01J 37/32247
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
32192Microwave generated discharge
32211Means for coupling power to the plasma
32247Resonators
H05H 7/18
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
HPLASMA TECHNIQUE
7Details of devices of the types covered by groups H05H9/00, H05H11/00, H05H13/00
14Vacuum chambers
18Cavities; Resonators
Applicants YANGTZE OPTICAL FIBRE & CABLE JOINT STOCK LTD CO
Inventors LI ZHENYU
LU SONGTAO
LIU SHANPEI
LONG SHENGYA
LEI GAOQING
LIU YONGTAO
Designated States
Title
(DE) ZYLINDRISCHER PLASMARESONANZHOHLRAUM
(EN) CYLINDRICAL PLASMA RESONANT CAVITY
(FR) CAVITÉ RÉSONNANTE CYLINDRIQUE À PLASMA
Abstract
(EN) The present invention relates to a cylindrical plasma resonant cavity for the PCVD (Plasma Chemical Vapor Deposition) optical fiber preform processing machine. The cylindrical plasma resonant cavity includes a cylindrical resonant cavity case. Cutoff waveguides are set at the both sides of the cylindrical resonant cavity case, and a waveguide inlet is opened in the circumferential direction of the cylindrical resonant cavity case. The cylindrical plasma resonant cavity is characterized in that: the cutoff waveguides at the both sides of the cylindrical resonant cavity case are movable end cover structure, middle vias are opened in said movable end cover structural cutoff waveguides, and bumped truncated cones configured with the cylindrical resonant cavity are set at the inside end surfaces. The present invention enables the matching between the resonant cavity and the glass tubes with different diameters through the disassembly and change of the cutoff waveguides, and enables a better matching between the waveguide devices and the resonant cavity load. The coupling effect is improved to adapt the variation of the load in the machining process, and the energy loss is decreased, thus the adaptation range of the machining of the cylindrical plasma resonant cavity is improved. With the simple structure, easy machining and manufacturing, uniform deposition, good deposition attachment effect, the present invention improves the machining precision and efficiency of the PCVD process.
(FR) La présente invention a trait à une cavité résonnante cylindrique à plasma destinée à une machine de traitement de préforme de fibre optique PECVD (dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma). La cavité résonnante cylindrique à plasma inclut un boîtier de cavité résonnante cylindrique. Des guides d'ondes évanescents sont définis des deux côtés du boîtier de cavité résonnante cylindrique et un orifice d'entrée de guide d'ondes est ouvert dans la direction circonférentielle du boîtier de cavité résonnante cylindrique. La cavité résonnante cylindrique à plasma est caractérisée en ce que : les guides d'ondes évanescents des deux côtés du boîtier de cavité résonnante cylindrique constituent une structure de couvercle d'extrémité mobile, des trous d'interconnexion centraux sont ouverts dans lesdits guides d'ondes évanescents structuraux de couvercle d'extrémité mobile, et des cônes tronqués bosselés configurés avec la cavité résonnante cylindrique sont définis sur les surfaces d'extrémité intérieures. La présente invention permet d'obtenir une mise en correspondance entre la cavité résonnante et les tubes de verre dotés de différents diamètres au moyen du démontage et du changement des guides d'ondes évanescents, et permet d'obtenir une meilleure mise en correspondance entre les dispositifs de guide d'ondes et la charge de la cavité résonnante. L'effet de couplage est amélioré de manière à adapter la variation de la charge dans le processus d'usinage et la perte d'énergie est réduite, de sorte que la plage d'adaptation de l'usinage de la cavité résonnante cylindrique à plasma est améliorée. Grâce à une structure simple, à un usinage et à une fabrication aisés, à un dépôt uniforme et à un bon effet d'attachement de dépôt, la présente invention permet d'améliorer la précision d'usinage et l'efficacité du processus PECVD.
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