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1. DE102018220625 - Optisches Beleuchtungssystem für Projektionslithographie

Office Germany
Application Number 102018220625
Application Date 29.11.2018
Publication Number 102018220625
Publication Date 04.06.2020
Publication Kind A1
IPC
G03F 7/20
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printed surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
20Exposure; Apparatus therefor
G02B 5/09
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
5Optical elements other than lenses
08Mirrors
09Multifaceted or polygonal mirrors
CPC
G02B 5/0891
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
5Optical elements other than lenses
08Mirrors
0891Ultraviolet [UV] mirrors
G03F 7/70075
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70058Mask illumination systems
70075Homogenization of illumination intensity in the mask plane, by using an integrator, e.g. fly's eye lenses, facet mirrors, glass rods, by using a diffusive optical element or by beam deflection
G03F 7/70091
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70058Mask illumination systems
70091Illumination settings, i.e. intensity distribution in the pupil plane, angular distribution in the field plane; On-axis or off-axis settings, e.g. annular, dipole, quadrupole; Partial coherence control, i.e. sigma or numerical aperture [NA]
Applicants Carl Zeiss SMT GmbH
Inventors Gang Tian
Schoot Jan van
Title
(DE) Optisches Beleuchtungssystem für Projektionslithographie
Abstract
(DE)

Ein optisches Beleuchtungssystem für Projektionslithographie wird zur Beleuchtung eines Beleuchtungsfelds verwendet, in welchem ein Objektfeld eines nachfolgenden optischen Abbildungssystems angeordnet sein kann. Ein Pupillenfacettenspiegel des optischen Beleuchtungssystems weist mehrere Pupillenfacetten (11) auf. Jede Pupillenfacette (11) ist designt zum Führen eines Beleuchtungslichtteilbündels (24i). Für mindestens einige der Pupillenfacetten (11), welche als selektiv reflektierende Pupillenfacetten designt sind, gilt das Folgende: Die selektiv reflektierende Pupillenfacette (11) weist eine reflektierende Beschichtung (27) für das Beleuchtungslicht auf. Ein erstes Beschichtungsgebiet (271) auf einem ersten Teil der selektiv reflektierenden Pupillenfacette (11) weist eine erste Reflektivität auf. Ein zweites Beschichtungsgebiet (272) auf einem zweiten Teil der selektiv reflektierenden Pupillenfacette (11) weist eine zweite Reflektivität auf. Das erste Beschichtungsgebiet (271) unterscheidet sich von dem zweiten Beschichtungsgebiet (272). Die erste Reflektivität unterscheidet sich von der zweiten Reflektivität. In Kombination oder als eine Alternative gilt für mindestens einige der Pupillenfacetten, welche als breitbandig reflektierende Pupillenfacetten designt sind, das Folgende: Die breitbandig reflektierenden Facetten weisen eine breitbandig reflektierende Beschichtung für das Beleuchtungslicht auf. Das Ergebnis ist ein optisches Beleuchtungssystem, in welchem einerseits eine gewünschte Kombination von hohem Beleuchtungslichtdurchsatz und andererseits gleichförmige Beleuchtung des Beleuchtungsfelds erreicht werden. embedded image

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