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1. WO2007096349 - ORGANIC DIODE AND METHOD FOR PRODUCING ORGANIC DIODES

Note: Text based on automatic Optical Character Recognition processes. Please use the PDF version for legal matters

[ DE ]

Patentansprüche

1. Verfahren zum Herstellen von organischen Dioden (F), aufweisend folgende Verfahrensschritte:
- Herstellen eines großflächigen und unstrukturierten
Schichtsystems (S) durch
Bereitstellen eines unstrukturierten elektrisch leitfähigen Substrats (2),
Auftragen wenigstens einer unstrukturierten aktiven or-ganischen Schicht (5) auf das elektrisch leitfähige Substrat (2) und
Auftragen einer unstrukturierten elektrisch leitfähigen Schicht (7) auf die unstrukturierte aktive organische Schicht (5),
- und Herstellen mehrerer organischer Dioden (F) aus dem großflächigen und unstrukturierten Schichtsystem (5) durch
Zerschneiden des Schichtsystems (S) in mehrere organische Ron-Dioden (9), sodass jede der organischen Roh-Dioden (9) das elektrisch leitfähige Substrat mit darauffolgender aktiver organischer Schicht (5) und darauffolgender elektrisch leitfähiger Schicht (7) umfasst,
Versehen des elektrisch leitfähigen Substrats (2) und der elektrisch leitfähigen Schicht (7) jeder organischen Roh-Diode (9) mit jeweils einem Drahtanschluss (10, 11) und
- Versehen jeder organischen Roh-Diode (9) mit einer
Schutzschicht (12) .

2. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem die unstrukturierte elektrisch leitfähige Schicht (7) eine Kathode oder eine Ano-de der organischen Dioden (F) bildet.

3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, bei dem die unstrukturierte elektrisch leitfähige Schicht (7) derart dünn ausgeführt ist, dass sie zumindest semitransparent ist.

4. Verfahren nach Anspruch 3, bei dem die unstrukturierte elektrisch leitfähige Schicht (7) eine Schichtdicke kleiner als 20nm aufweist.

5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, bei dem die umstrukturierte elektrisch leitfähige Schicht (7) aus einem zumindest semitransparentem Material gefertigt ist.

6. Verfahren nach Anspruch 5, bei dem die umstrukturierte elektrisch leitfähige Schicht (7) ITO oder andere semitransparente elektrisch leitfähige Oxide umfasst.

7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, bei dem die unstrukturierte elektrisch leitfähige Schicht eine erste Metallschicht (7) ist.

8. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, bei dem direkt auf das unstrukturierte elektrisch leitfähige Substrat (2) eine unstrukturierte zweite Metallschicht (3) aufgetragen wird.

9. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 8, bei dem vor und/oder nach dem Auftragen der wenigstens einen unstrukturierten aktiven organischen Schicht (5) wenigstens eine unstrukturierte Lochtransport- oder Elektronentransportschicht (4, 6) aufgetragen wird.

10. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 9, bei dem das bereitgestellte unstrukturierte elektrisch leitfähige Substrat (2) auf einer Klebefolie (1) fixiert wird.

11. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 10, das in einer Inertgas-Umgebung durchgeführt wird.

12. Organische Diode, aufweisend
eine Roh-Diode (9) aus einem elektrisch leitfähigen Substrat (2), einer aktiven organischen Schicht (5) und einer elektrisch leitfähigen Schicht (7),
Drahtanschlüsse (10, 11), von denen der eine Drahtan-schluss (11) das elektrisch isolierende Substrat (2) und der andere Drahtanschluss (12) die elektrisch leitfähige Schicht (2) der Roh-Diode (9) kontaktiert, und
eine Schutzschicht (12), mit der die Roh-Diode (9) versehen ist.

13. Organische Diode nach Anspruch 12, deren elektrisch leitfähige Schicht (7) eine Kathode oder eine Anode der organischen Dioden (F) bildet.

14. Organische Diode nach Anspruch 12 oder 13, deren elektrisch leitfähige Schicht (7) derart dünn ausgeführt ist, dass sie zumindest semitransparent ist.

15. Organische Diode nach Anspruch 14, deren elektrisch leit-fähige Schicht (7) eine Schichtdicke kleiner als 20nm aufweist .

16. Organische Diode nach einem der Ansprüche 12 bis 15, deren elektrisch leitfähige Schicht (7) aus einem zumindest se-mitransparentem Material gefertigt ist.

17. Organische Diode nach Anspruch 16, deren elektrisch leitfähige Schicht (7) ITO oder andere semitransparente elektrisch leitfähige Oxide umfasst.

18. Organische Diode nach einem der Ansprüche 12 bis 17, deren elektrisch leitfähige Schicht eine erste MetallSchicht (7) ist.

19. Organische Diode nach einem der Ansprüche 12 bis 18, deren Roh-Diode (9) eine zweite Metallschicht (3) aufweist, die direkt auf das elektrisch leitfähige Substrat (2) aufgetragen ist .

20. Organische Diode nach einem der Ansprüche 12 bis 19, deren Roh-Diode (9) wenigstens eine unstrukturierte Lochtransport- oder Elektronentransportschicht (4, 6) aufweist, die an die aktive organischen Schicht (5) angrenzt.