(12) International Application Status Report

Received at International Bureau: 27 November 2019 (27.11.2019)

Information valid as of: 29 November 2019 (29.11.2019)

Report generated on: 30 September 2020 (30.09.2020)

(10) Publication number: (43) Publication date: (26) Publication language:
WO 2020/11073404 June 2020 (04.06.2020) Japanese (JA)

(21) Application number: (22) Filing date: (25) Filing language:
PCT/JP2019/04457613 November 2019 (13.11.2019) Japanese (JA)

(31) Priority number(s): (32) Priority date(s): (33) Priority status:
2018-221328 (JP)27 November 2018 (27.11.2018) Priority document received (in compliance with PCT Rule 17.1)

(51) International Patent Classification:
B01J 19/08 (2006.01); C01B 3/06 (2006.01); C01B 6/04 (2006.01); H05H 1/46 (2006.01)

(71) Applicant(s):
SE CORPORATION [JP/JP]; 43F, Shinjuku i-LAND Tower, 5-1, Nishi-shinjuku 6-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1631343 (JP) (for all designated states)

(72) Inventor(s):
TAKIZAWA Tsutomu; c/o SE CORPORATION, 43F, Shinjuku i-LAND Tower, 5-1, Nishi-shinjuku 6-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1631343 (JP)
SHIRANE Takashi; c/o SE CORPORATION, 43F, Shinjuku i-LAND Tower, 5-1, Nishi-shinjuku 6-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1631343 (JP)
MORIMOTO Mineo; c/o SE CORPORATION, 43F, Shinjuku i-LAND Tower, 5-1, Nishi-shinjuku 6-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1631343 (JP)
SAKAMOTO Yuichi; 32-201, Fujimicho 6-chome, Tachikawa-shi, Tokyo 1900013 (JP)

(74) Agent(s):
SAKAMOTO & PARTNERS; 13, Yotsuya 2-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600004 (JP)

(54) Title (EN): PLASMA-USING PROCESSING DEVICE AND PRODUCTION METHOD FOR PRODUCING HYDROGEN GENERATING MATERIAL USING SAME PROCESSING DEVICE
(54) Title (FR): DISPOSITIF DE TRAITEMENT UTILISANT UN PLASMA ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION POUR PRODUIRE UN MATÉRIAU GÉNÉRANT DE L'HYDROGÈNE À L'AIDE DUDIT DISPOSITIF DE TRAITEMENT
(54) Title (JA): プラズマを用いた処理装置及びその処理装置を用いて水素発生材料を製造する製造方法

(57) Abstract:
(EN): In order to provide, for example, a plasma-using processing device that is suited for producing, through a comparatively low temperature process, a hydrogen generating material containing magnesium hydride, the plasma-using processing device (10) of the present invention comprises: a processing chamber (11) wherein plasma is irradiated onto a raw material; a raw material supply unit (12) supplying the raw material in a suspended state in the plasma; a gas supply unit (13) supplying a reactive gas to be turned into the plasma and reacted with the raw material; a microwave supply unit (14) supplying microwaves for the purpose of generating the plasma; and a dielectric window (15) for allowing microwaves to pass therethrough and be introduced into the processing chamber (11), wherein the microwave supply unit (14) generates microwaves supplied through the window (15) into the processing chamber (11) that at least have a peak microwave electric power of 2.0 kilowatts or higher.
(FR): Afin de fournir, par exemple, un dispositif de traitement utilisant du plasma qui est approprié pour produire, par un processus à température comparativement basse, un matériau générant de l'hydrogène contenant de l'hydrure de magnésium, le dispositif de traitement utilisant le plasma (10) de la présente invention comprend : une chambre de traitement (11) dans laquelle un plasma est irradié sur une matière première; une unité d'alimentation en matière première (12) fournissant la matière première dans un état suspendu dans le plasma; une unité d'alimentation en gaz (13) fournissant un gaz réactif à être transformé en plasma et mis à réagir avec la matière première; une unité d'alimentation en micro-ondes (14) fournissant des micro-ondes dans le but de générer le plasma; et une fenêtre diélectrique (15) pour permettre au micro-ondes de passer à travers celle-ci et être introduite dans la chambre de traitement (11), l'unité d'alimentation en micro-ondes (14) générant des micro-ondes fournies à travers la fenêtre (15) dans la chambre de traitement (11) qui ont au moins une puissance électrique de micro-ondes de pic de 2,0 kilowatts ou plus.
(JA): 例えば、水素化マグネシウムを含む水素発生材料を比較的低温なプロセスで製造するのに適したプラズマを用いた処理装置を提供するために、本発明のプラズマを用いた処理装置(10)は、原料にプラズマを照射する処理室(11)と、プラズマ中に原料を浮遊状態で供給する原料供給部(12)と、プラズマ化して原料に反応させる反応性ガスを供給するガス供給部(13)と、プラズマを生成させるためのマイクロ波を供給するマイクロ波供給部(14)と、処理室(11)に導入するマイクロ波を通す誘電体の窓(15)と、を備え、マイクロ波供給部(14)は、少なくとも窓(15)を通して処理室(11)内に供給されるマイクロ波のマイクロ波電力のピーク値が2.0キロワット以上となるマイクロ波を発生する。

International search report:
Received at International Bureau: 17 February 2020 (17.02.2020) [JP]

International Report on Patentability (IPRP) Chapter II of the PCT:
Not available

(81) Designated States:
AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
European Patent Office (EPO) : AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR
African Intellectual Property Organization (OAPI) : BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) : BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW
Eurasian Patent Organization (EAPO) : AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM