(12) International Application Status Report

Received at International Bureau: 04 April 2018 (04.04.2018)

Information valid as of: 04 June 2018 (04.06.2018)

Report generated on: 17 January 2020 (17.01.2020)

(10) Publication number: (43) Publication date: (26) Publication language:
WO 2018/18085004 October 2018 (04.10.2018) Japanese (JA)

(21) Application number: (22) Filing date: (25) Filing language:
PCT/JP2018/01131222 March 2018 (22.03.2018) Japanese (JA)

(31) Priority number(s): (32) Priority date(s): (33) Priority status:
2017-067645 (JP)30 March 2017 (30.03.2017) Priority document received (in compliance with PCT Rule 17.1)

(51) International Patent Classification:
G02F 1/1337 (2006.01)

(71) Applicant(s):
DIC CORPORATION [JP/JP]; 35-58, Sakashita 3-chome, Itabashi-ku, Tokyo 1748520 (JP) (for all designated states)

(72) Inventor(s):
GOTO Marina; c/o DIC Corporation, Saitama Plant, 4472-1, Oaza Komuro, Ina-machi, Kitaadachi-gun, Saitama 3628577 (JP)
INOUE Yuichi; c/o DIC Corporation, Saitama Plant, 4472-1, Oaza Komuro, Ina-machi, Kitaadachi-gun, Saitama 3628577 (JP)

(74) Agent(s):
OGAWA Shinji; c/o DIC Corporation, 7-20, Nihonbashi 3-chome, Chuo-ku, Tokyo 1038233 (JP)

(54) Title (EN): METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT
(54) Title (FR): PROCÉDÉ PERMETTANT DE FABRIQUER UN ÉLÉMENT D'AFFICHAGE À CRISTAUX LIQUIDES
(54) Title (JA): 液晶表示素子の製造方法

(57) Abstract:
(EN): Provided is a method for manufacturing a liquid crystal display element, which comprises one to n separate and independent light irradiation steps for irradiating a liquid crystal composition containing a polymerizable compound affixed onto a substrate with light having a peak at 300-400 nm, and is characterized in that, when the concentration change amount Vk per unit minute of the concentration difference between the concentration (Ck) of the polymerizable compound after the liquid crystal composition containing 0.3 mass% of the polymerizable compound has been irradiated with light for five minutes under the light irradiation condition of a k-th light irradiation step (Sk) among the one to n light irradiation steps, and 0.3 mass% is represented by expression (1) in each of the steps, the average reaction velocity Vave of the polymerizable compound in all light irradiation steps (ΣSk) represented by expression (2) is controlled to 0.030-0.048 (mass%/min).
(FR): L'invention concerne un procédé de fabrication d'un élément d'affichage à cristaux liquides, qui comprend une à n étapes d'irradiation de lumière séparées et indépendantes permettant d'irradier une composition de cristaux liquides contenant un composé polymérisable apposée sur un substrat avec une lumière ayant un pic à 300-400 nm, et qui est caractérisé en ce que, lorsque la quantité de changement de concentration Vk par unité minute de la différence de concentration entre la concentration (Ck) du composé polymérisable après que la composition de cristaux liquides contenant 0,3 % en masse du composé polymérisable a été irradiée avec de la lumière pendant cinq minutes dans la condition d'irradiation de lumière d'une k-ième étape d'irradiation de lumière (Sk) parmi les une à n étapes d'irradiation de lumière, et 0,3 % en masse est représentée par l'expression (1) dans chacune des étapes, la vitesse de réaction moyenne Vave du composé polymérisable dans toutes les étapes d'irradiation de lumière (ΣSk) représentée par l'expression (2) est régulée à 0,030-0,048 (% en masse/min).
(JA): 基板上に添着された重合性化合物を含有する液晶組成物に300~400nmにピークを有する光を照射する光照射工程を別個独立する1~n回備えた液晶表示素子の製造方法であって、 前記の1~n回の光照射工程のうちk回目の光照射工程(Sk)の光照射条件下で前記重合性化合物を0.3質量%含有する液晶組成物に対して5分間光を照射した後の前記重合性化合物の濃度(Ck)と、0.3質量%との濃度差の単位分あたりの濃度変化量Vkが、式(1)で工程毎に表される場合、式(2)で表される全光照射工程(ΣSk)における前記重合性化合物の平均反応速度Vaveを0.030~0.048(質量%/分)に制御することを特徴とする、液晶表示素子の製造方法を提供する。

International search report:
Received at International Bureau: 04 June 2018 (04.06.2018) [JP]

International Report on Patentability (IPRP) Chapter II of the PCT:
Not available

(81) Designated States:
AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
European Patent Office (EPO) : AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR
African Intellectual Property Organization (OAPI) : BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) : BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW
Eurasian Patent Organization (EAPO) : AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM