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ALLNUM:WO2005041276

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Analyse

1.WO2005041276露光装置、露光方法、デバイスの製造方法
JP 06.05.2005
IPC H01L 21/027
H Elektrotechnik
01
Grundlegende elektrische Bauteile
L
Halbleiterbauelemente; elektrische Festkörperbauelemente, soweit nicht anderweitig vorgesehen
21
Verfahren oder Geräte, besonders ausgebildet für die Herstellung oder Behandlung von Halbleiter- oder Festkörperbauelementen oder Teilen davon
02
Herstellung oder Behandlung von Halbleiterbauelementen oder Teilen davon
027
Herstellung von Masken auf Halbleiterkörpern für ein folgendes fotolithografisches Verfahren, soweit nicht von H01L21/18 oder H01L21/34178
Anm.-Nr. 2005514993 Anmelder 株式会社ニコン Erfinder 今井 基勝
2.WO/2005/041276EXPOSURE APPARATUS, EXPOSURE METHOD, AND DEVICE PRODUCING METHOD
WO 06.05.2005
IPC G03F 7/20
G Physik
03
Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
F
Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
7
Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken [Resists]; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
20
Belichten; Vorrichtungen dafür
Anm.-Nr. PCT/JP2004/015796 Anmelder NIKON CORPORATION Erfinder IMAI, Motokatsu
An exposure apparatus forming a liquid immersion region by supplying a liquid on portion on a substrate and forming a predetermined pattern on the substrate through the liquid. The apparatus is characterized in that a preliminary liquid immersion region that is capable of holding on the substrate a portion of the liquid is formed on the outer periphery of the liquid immersion region. The liquid placed between the lower face of a projection optical system and the surface of the substrate is prevented from being separated from the lower face of the projection optical system as the projection optical system and the substrate relatively move.